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企业商机 - 岱美仪器技术服务(上海)有限公司
  • 芯片纳米压印学校会用吗 发布时间:2024.04.13

    EVG®520HE热压印系统特色:经通用生产验证的热压印系统,可满足ZUI高要求EVG520HE半自动热压印系统设计用于对热塑性基材进行高精度压印。EVG的这种经过生产验证的系统可以接受直径ZUI大为...

  • FSM413MOT红外干涉测量设备:适用于所有可让红外线通过的材料:硅、蓝宝石、砷化镓、磷化铟、碳化硅、玻璃、石英、聚合物…………应用:衬底厚度(不受图案硅片、有胶带、凹凸或者粘合硅片影响)平整度厚度...

  • 支撑面测试在系统运行时,推动支撑表面。灯不亮,除了可能会大力推动。如果可以轻松使灯点亮,则支撑表面刚度不足以获得充分的性能。确定支撑表面是否起反应对水平或垂直力施加更大的作用,并尝试适当地使结构变硬。...

  • 氮化镓纳米压印研发生产 发布时间:2024.04.03

    EVGROUP®|产品/纳米压印光刻解决方案纳米压印光刻的介绍:EVGroup是纳米压印光刻(NIL)的市场领仙设备供应商。EVG开拓了这种非常规光刻技术多年,掌握了NIL并已在不断增长的基板尺寸上实...

  • 超纳轮廓仪美元价格 发布时间:2024.04.01

    轮廓仪的和新团队夏勇博士,江苏省双创人才15年ADE,KAL-Tencor半导体检测设备公司研发、项目管理经验SuperSightInc.CEO/共同创始人,太阳能在线检测设备唐寿鸿博士,国家千人**...

  • 高精度电容位移传感器出现故障如何解决?1. 检查连接:首先,需要检查传感器的连接是否正确、接头是否松动等,排除可能的连接问题。2. 排除电源故障:检查传感器的电源是否正常供电,是否存在供电不稳定的情况...

  • 美国轮廓仪测样 发布时间:2024.03.21

    轮廓仪的主要客户群体300mm集成电路技术封装生产线检测集成电路工艺技术研发和产业化国家重点实验室高效太阳能电池技术研发、产业化MEMS技术研发和产业化新型显示技术研发、产业化超高精密表面工程技术轮廓...

  • 官方键合机优惠价格 发布时间:2024.03.17

    Abouie M 等人[4]针对金—硅共晶键合过程中凹坑对键合质量的影响展开研究,提出一种以非晶硅为基材的金—硅共晶键合工艺以减少凹坑的形成,但非晶硅的实际应用限制较大。康兴华等人[5]加工了简单的多...

  • 选购电阻率测量仪的时候需要注意什么?1. 测量范围:不同型号的电阻率测量仪有不同的测量范围,需要根据实际需要选择适合的型号。2. 测量精度:电阻率测量仪的测量精度直接影响测试结果的准确性,因此需要选择...

  • 轮廓仪、粗糙度仪、三坐标的区别关于轮廓仪和粗糙度仪轮廓仪与粗糙度仪不是同一种产品,轮廓仪主要功能是测量零件表面的轮廓形状,比如:汽车零件中的沟槽的槽深、槽宽、倒角(包括倒角位置、倒角尺寸、角度等),圆...

  • 电阻率测量仪可以为企业带来哪些益处?电阻率测量仪是一种高精度、实时性强、操作简单的电子测试设备,对于企业而言,它可以带来以下益处:1. 提高生产效率:电阻率测量仪能够实现快速、准确的电阻率测量。在生产...

  • 选购薄膜应力分析仪时需要注意哪些因素?1. 测量范围和精度:薄膜应力分析仪的测量范围和精度是重要指标之一,需要根据实际需要选择合适的测量范围和精度,以确保测量结果的准确性和可靠性。2. 测量速度:薄膜...

  • 半导体光刻机价格怎么样 发布时间:2024.03.07

    EVG®620NT掩模对准系统(半自动/自动)特色:EVG®620NT提供国家的本领域掩模对准技术在ZUI小化的占位面积,支持高达150毫米晶圆尺寸。技术数据:EVG620NT以其多功能性和可靠性而著...

  • 薄膜应力分析仪有哪些产品特性?产品特性:1、薄膜应力分析仪采用非接触式激光扫描测量技术;2、薄膜应力分析仪光源波长可以在650nm和780nm自动切换;3;薄膜应力分析仪应力测量范围广,包括半导体/光...

  • 测厚仪膜厚仪有哪些品牌 发布时间:2024.03.04

    生物医疗设备涂层应用生物医疗器械应用中的涂层生物医疗器械的制造和准备方面会用到许多类型的涂层。有些涂层是为了保护设备免受腐蚀,而其他的则是为了预防组织损伤、敢染或者是排异反应。药物传输涂层也变得日益普...

  • 硬涂层膜厚仪要多少钱 发布时间:2024.03.04

    F10-AR无须处理涂层背面我们探头设计能抑制1.5mm厚基板98%的背面反射,使用更厚的镜头抑制的更多。就像我们所有的台式仪器一样,F10-AR需要连接到您装有Windows计算机的USB端口上并在...

  • AVI-400SLP隔振台值得买 发布时间:2024.03.01

    AVI400-MAVI400-M的基本配置包括两个紧凑型隔振模块和一个控制单元,最大负载为800公斤。通过增加紧凑型单元的数量,可以轻松实现对更高负载的支持。为了使AVI400-M适应用户特定的应用,...

  • 中科院光刻机特点 发布时间:2024.02.28

    EVG120光刻胶自动处理系统:智能过程控制和数据分析功能(框架软件平台)用于过程和机器控制的集成分析功能并行任务/排队任务处理功能设备和过程性能根踪功能智能处理功能:事/故和警报分析/智能维护管理和...

  • 薄膜应力分析仪有哪些使用注意事项?1. 在操作前检查设备。使用前应检查设备是否处于良好状态,所有连接器和夹具是否安装正确等。如果发现损坏或故障,应立即通知维修人员进行处理。2. 样片准备。样片应当充分...

  • 国产轮廓仪供应商 发布时间:2024.02.23

    白光干涉轮廓仪对比激光共聚焦轮廓仪白光干涉3D显微镜:干涉面成像,多层垂直扫描蕞好高度测量精度:<1nm高度精度不受物镜影响性价比好。激光共聚焦3D显微镜:点扫描合成面成像,多层垂直扫描Keyence...

  • 山东光刻机轮廓测量应用 发布时间:2024.02.21

    EVG6200NT特征:晶圆/基板尺寸从小到200mm/8''系统设计支持光刻工艺的多功能性在弟一次光刻模式下的吞吐量高达180WPH,在自动对准模式下的吞吐量高达140WPH易碎,薄或翘曲的多种尺寸...

  • 实验室光刻机代理商 发布时间:2024.02.20

    我们可以根据您的需求提供进行优化的多用途系统。我们的掩模对准系统设计用于从掩模对准到键合对准的快速简便转换。此外,可以使用用于压印光刻的可选工具集,例如UV-纳米压印光刻,热压印或微接触印刷。所有系统...

  • 晶圆缺陷检测光学系统如何进行数据处理和分析?晶圆缺陷检测光学系统进行数据处理和分析通常分为以下几个步骤:1、图像预处理:首先对采集到的缺陷图像进行预处理,包括去除噪声、调整图像亮度和对比度等。2、特征...

  • 参考材料备用BK7和二氧化硅参考材料。BG-Microscope显微镜系统内取背景反射的小型抗反光镜BG-F10-RT平台系统内获取背景反射的抗反光镜REF-Al-1mmSubstrate基底-高反射...

  • 电容式位移传感器具有哪些应用优势?电容式位移传感器应用优势:1. 测量精度高:电容式位移传感器具有很高的测量精度,测量范围适中,且可以达到亚微米级别的精度,适用于高精度测量场合。2. 灵敏度好:电容式...

  • 晶圆缺陷检测光学系统在半导体生产中扮演着非常重要的角色,其作用如下:1、检测晶圆缺陷:晶圆缺陷检测光学系统通过利用光学成像技术,可以检测晶圆表面的缺陷和污染物。这些缺陷包括磨损、划痕、光栅缺陷和雾点等...

  • 智能电阻率测量仪哪家实惠 发布时间:2024.02.03

    电阻率测量仪使用注意事项:1. 仪器操作前需进行正确的设置和连接,遵循检测规范,以保证测量数据的准确性。2. 在使用时要注意避免探针发生短路,同时保持探针与待测物的接触良好,避免测量不准或者出现异常波...

  • CSI轮廓仪竞争力怎么样 发布时间:2024.01.31

    轮廓仪是一种两坐标测量仪器,仪器传感器相对被测工件表而作匀速滑行,传感器的触针感受到被测表而的几何变化,在X和Z方向分别采样,并转换成电信号,该电信号经放大和处理,再转换成数字信号储存在计算机系统的存...

  • 轮廓测量仪轮廓仪技术原理 发布时间:2024.01.30

    如何正确使用轮廓仪准备工作1.测量前准备。2.开启电脑、打开机器电源开关、检查机器启动是否正常。3.擦净工件被测表面。测量1.将测针正确、平稳、可靠地移动在工件被测表面上。2.工件固定确认工件不会出现...

  • 工艺薄膜膜厚仪售后服务 发布时间:2024.01.28

    测量复杂的有机材料典型的有机发光显示膜包括几层: 空穴注入层,空穴传输层,以及重组/发光层。所有这些层都有不寻常有机分子(小分子和/或聚合物)。虽然有机分子高度反常色散,测量这些物质的光谱反射充满挑战...

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