EVG®120--光刻胶自动化处理系统EVG®120是用于当洁净室空间有限,需要生产一种紧凑的,节省成本光刻胶处理系统。新型EVG120通用和全自动光刻胶处理工具能够处理各种形状和尺寸达200mm/8...
如何使用高精度电容位移传感器?根据需要测量的位置变化范围、分辨率和精度的要求,选择合适的传感器类型和规格。常见的高精度电容位移传感器有平板式、扭转式和圆柱式等,可以根据应用场景的实际情况选择。将电容传...
阳极键合是晶片键合的一种方法,广FAN用于微电子工业中,利用热量和静电场的结合将两个表面密封在一起。这种键合技术ZUI常用于将玻璃层密封到硅晶圆上。也称为场辅助键合或静电密封,它类似于直接键合,与大多...
目前关于晶片键合的研究很多,工艺日渐成熟,但是对于表面带有微结构的硅片键合研究很少,键合效果很差。本文针对表面带有微结构硅晶圆的封装问题,提出一种基于采用Ti/Au作为金属过渡层的硅—硅共晶键合的键合...
如何使用高精度电容位移传感器?根据需要测量的位置变化范围、分辨率和精度的要求,选择合适的传感器类型和规格。常见的高精度电容位移传感器有平板式、扭转式和圆柱式等,可以根据应用场景的实际情况选择。将电容传...
满足您需求的轮廓仪使用范围广:兼容多种测量和观察需求保护性:非接触式光学轮廓仪耐用性更强,使用无损可操作性:一键式操作,操作更简单,更方便智能性:特殊形状能够只能计算特征参数个性化:定制化客户报告模式...
轮廓仪,能描绘工件表面波度与粗糙度,并给出其数值的仪器,采用精密气浮导轨为直线基准。轮廓测试仪是对物体的轮廓、二维尺寸、二维位移进行测试与检验的仪器,作为精密测量仪器,在汽车制造和铁路行业的应用十分广...
EVG®720自动SmartNIL®UV纳米压印光刻系统自动全视野的UV纳米压印溶液达150毫米,设有EVGs专有SmartNIL®技术EVG720系统利用EVG的创新SmartNIL技术和材料专业知...
NIL已被证明是在大面积上实现纳米级图案的蕞具成本效益的方法,因为它不受光学光刻所需的复杂光学器件的限制,并且它可以为极小尺寸(小于100分)提供蕞佳图案保真度nm)结构。EVG的SmartNIL是基...
超纳轮廓仪的主设计简介:中组部第十一批“qian人计划”特聘砖家,美国KLA-Tencor(集成电路行业检测设备市场的笼头企业)资申研发总监,干涉测量技术砖家美国上市公司ADE-Phaseift的总研...
轮廓仪在集成电路的应用封砖Bump测量视场:72*96(um)物镜:干涉50X检测位置:样品局部面减薄表面粗糙度分析封装:300mm硅片背面减薄表面粗糙度分析面粗糙度分析:2D,3D显示;线粗糙度分析...
比较椭圆偏振仪和光谱反射仪光谱椭圆偏振仪(SE)和光谱反射仪(SR)都是利用分析反射光确定电介质,半导体,和金属薄膜的厚度和折射率。两者的主要区别在于椭偏仪测量小角度从薄膜反射的光,而光谱反射仪测量从...
EVG®150特征:晶圆尺寸可达300毫米多达6个过程模块可自定义的数量-多达20个烘烤/冷却/汽化堆多达四个FOUP装载端口或盒式磁带装载可用的模块包括旋转涂层,喷涂,NanoCoat™,显影,烘烤...
1.5.系统培训的注意事项如何使用电子书阅读软件和软、硬件的操作手册;数据采集功能的讲解:通讯端口、连接计算器、等待时间等参数的解释和参数设置;实际演示一一讲解;如何做好备份和恢复备份资料;当场演示各...
表面三维微观形貌测量的意义在生产中,表面三维微观形貌对工程零件的许多技术性能的评家具有蕞直接的影响,而且表面三维评定参数由于能更权面,更真实的反应零件表面的特征及衡量表面的质量而越来越受到重视,因此表...
更可加装至三个探头,同时测量三个样品,具紫外线区或标准波长可供选择。F40:這型號安裝在任何顯微鏡外,可提供*小5um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。F50:這型號配備全自動XY工作台,由8"...
高精度电容位移传感器的检验方法:1. 周期测试:周期测试适用于周期性运动的测量,如机械运动和振动等。可以通过将测量头与参考物固定,然后测量周期性运动的特性,如频率、振幅和相位等,并记录其变化过程,以检...
EVG®620NT掩模对准系统(半自动/自动)特色:EVG®620NT提供国家的本领域掩模对准技术在蕞小化的占位面积,支持高达150毫米晶圆尺寸。技术数据:EVG620NT以其多功能性和可靠性而著称,...
共聚焦显微镜方法共聚焦显微镜包括LED光源、旋转多真孔盘、带有压电驱动器的物镜和CCD相机。LED光源通过多真孔盘(MPD)和物镜聚焦到样品表面上,从而反射光。反射光通过MPD的真孔减小到聚焦的部分落...
EVGroup企业技术总监ThomasGlinsner博士证实:“我们看到支持晶圆级光学器件的设备需求正在急剧增加。”“JIN从今年年初开始,我们就向大型WLO制造商交付了多个用于透镜成型和堆叠以及计...
该公司的高科技粘合剂以功能与可靠性闻名于世。根据客户的专门需求,公司对这些聚合物作出调整,使其具备其它特征。它们极其适合工业环境,在较短的生产周期时间内粘合各种微小的元件。此外,DELO紫外线LED固...
轮廓仪在晶圆的IC封装中的应用:晶圆的IC制造过程可简单看作是将光罩上的电路图通过UV刻蚀到镀膜和感光层后的硅晶圆上这一过程,其中由于光罩中电路结构尺寸极小,任何微小的黏附异物和下次均会导致制造的晶圆...
NanoX-8000轮廓仪的自动化系统主要配置:▪XY最大行程650*650mm➢支持415*510mm/510*610mm两种尺寸▪XY光栅分辨率0.1um,定位精度5um,重复精度1um▪XY平台...
轮廓仪、粗糙度仪、三坐标的区别:关于轮廓仪和粗糙度仪轮廓仪与粗糙度仪不是同一种产品,轮廓仪主要功能是测量零件表面的轮廓形状,比如:汽车零件中的沟槽的槽深、槽宽、倒角(包括倒角位置、倒角尺寸、角度等),...
精密电容式位移传感器具有哪些特点?MicroSense低噪声优势-具有纳米分辨率,高稳定性和高精度的位移传感器。1.是非接触式位移测量和短距离(±5微米至±2毫米)尺寸测量的理想选择。2.高精度–典型...
轮廓仪对精密加工的意义现代化高新技术的飞速发展离不开硬件设施和软件系统的配套支持,在精密加工领域同样如此,虽然我们在生活中不曾注意到超精密加工产品的“身影”,但是它却与我们的生活息息相关。例如在光学玻...
接触探头测量弯曲和难测的表面CP-1-1.3测量平面或球形样品,结实耐用的不锈钢单线圈。CP-1-AR-1.3可以抑制背面反射,对1.5mm厚的基板可抑制96%。钢制单线圈外加PVC涂层,蕞大可测厚度...
EVG®6200NT掩模对准系统(半自动/自动)特色:EVG®6200NT掩模对准器为光学双面光刻的多功能工具和晶片尺寸高达200毫米。技术数据:EVG6200NT以其自动化灵活性和可靠性而著称,可在...
EVG的掩模对准系统含有:EVG610;EVG620NT半自动/全自动掩模对准系统;EVG6200NT半自动/全自动掩模对准系统;IQAligner自动掩模对准系统;IQAlignerNT自动掩模对准...
IQAligner®NT曝光设定:硬接触/软接触/接近模式/柔性模式楔形补偿:全自动软件控制;非接触式IQAligner®NT曝光选项:间隔曝光/洪水曝光先进的对准功能:自动对准暗场对准功能/完整的明...