江西非接触式测厚仪

设备适配多种半导体材料的厚度检测，材质兼容范围较为。半导体生产涉及的检测材料品类繁杂，包含硅晶圆、碳化硅基材、氮化镓薄膜、光刻胶层、金属镀膜、封装环氧树脂层等，不同材料的透光性、折射率、物理硬度存在明显差异。非接触式测厚仪可通过调整光学参数、感应波段和测量模式，适配不同材质工件的检测需求，不会因材料透光或反光特性出现检测失效的情况。这种多元适配的能力，让设备可贯穿半导体基材制备、镀膜、光刻、封装等多个工序，减少生产线检测设备的种类投入。晶圆边缘环边镀膜检测，非接触式测厚仪重点监测边缘薄膜厚度消除边缘工艺异常缺陷。江西非接触式测厚仪

非接触式测厚仪相较于接触式设备，对高温工件检测场景适配性更强。半导体回流焊、高温沉积、退火等工序后的工件表层留存高温余热，接触式设备的金属探头接触高温工件后，容易出现热胀冷缩形变，加速配件老化损耗，同时高温会干扰接触式传感数据，导致检测结果失真。非接触式测厚仪依托光学原理检测，传感组件不与高温工件接触，不受工件表层温度影响，可直接对高温冷却阶段的工件开展厚度检测。无需等待工件自然降温，缩短工序流转等待时长，同时规避高温对检测设备的损耗，适配半导体各类高温制程后的快速质检作业。江西非接触式测厚仪半导体钝化保护层镀膜，非接触式测厚仪全片扫描膜厚防止局部过薄引发器件漏电隐患。

针对柔性半导体器件检测，非接触式测厚仪相比接触式设备优势突出。柔性芯片、柔性薄膜电路、可弯曲封装基材等器件柔韧性高、支撑性差，接触式设备的按压接触会让工件产生不可逆形变，不*破坏产品结构，还会导致检测数值严重失真，无法反映真实制程品质。非接触式测厚仪全程无物理按压、无表面摩擦，不会对柔性器件产生任何形变影响，能够在工件保持原始状态的前提下完成厚度检测。适配各类柔性半导体器件的量产质检与工艺调试，助力柔性半导体产品的规模化生产落地。

该设备可实现非破坏性检测，适配半导体试样与成品的全阶段检测。半导体研发试样、小批量试制的工件制作成本较高，部分试样具备性试制价值，传统接触式检测存在损伤工件的风险，无法用于成品试样检测。非接触式测厚仪依靠光学感应采集数据，不会对工件表面结构、镀膜层、电路层产生任何破坏，检测后的工件可正常投入后续工序或性能测试。在新品工艺调试阶段，工作人员可反复对同一样品进行多次检测，积累多组数据用于工艺分析，有效降低试样损耗成本，助力工艺迭代优化。多晶硅栅极抛光制程里，非接触式测厚仪实时测厚保障栅极厚度满足器件导通设计需求。

非接触式测厚仪支持定点与扫描两种检测模式，适配差异化检测需求。在半导体单点厚度抽检场景中，设备可精细锁定工件指定位置，完成定点厚度数值采集，适用于芯片局部镀膜、局部胶层的参数检测。针对晶圆、大尺寸基板等大面积工件，可开启扫描检测模式，自动遍历工件整体区域，采集多点厚度数据，生成完整的厚度分布数据。两种模式可自由切换，既能满足单点抽样质检的基础需求，也能完成大面积工件的整体厚度筛查，适配半导体不同尺寸、不同结构工件的检测场景。半导体高 K 介质层镀制时，非接触式测厚仪实时监测膜厚波动稳定精密镀膜生产流程。江西非接触式测厚仪

锗基半导体原片入库前，非接触式测厚仪逐片测定厚度数据完成来料质量核验工作。江西非接触式测厚仪

非接触式测厚仪在晶圆基材检测中应用，保障衬底加工品质。晶圆作为半导体元器件的基础基材，其整体厚度、边缘厚度、厚度均匀度会影响后续光刻、镀膜、刻蚀等工序的加工效果。晶圆切割、打磨、抛光制程中，容易出现局部厚度不均、边缘偏薄等问题。该设备以非接触方式完成晶圆全域厚度检测，精细捕捉基材厚度偏差，规避接触检测造成的晶圆表面抛光层损伤。通过常态化检测管控晶圆厚度参数，为晶圆打磨参数调整提供数据支撑，提升基材整体加工一致性。江西非接触式测厚仪

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