金属蚀刻液的配置问题：金属蚀刻液可在当地化工市场购买，玻璃蚀刻液可自行配置。金属蚀刻液可按盐酸8毫升、硝酸25.5毫升、铜末或银粉少许配置具有金色或银色蚀刻效果的蚀刻液。玻璃蚀刻液可按50℃至60℃热水18.4%、氢氟酸铵23.5%、草酸12.4%、硫酸铵15.7%、甘油6.5%、硫酸钡23.5%和少许有机染料配置各种颜色的蚀刻液。配方中的原料在各地化工商店均有售。加工前让消费者把玻璃或金属器皿洗涤干净，再少许加温以防炸裂，小件器皿直接放入热水中浸泡，大件用吹风机在器皿表面平均加热。蚀刻速度越快，板子在蚀刻液中停留的时间越短。赣州碱性蚀刻液回用及提铜服务用一定数量的敞口式电解槽单元组成一个电化...

蚀刻液应具备的技术性能：1、蚀刻液能满足抗蚀保护层(或抗电镀保护层)的性能要求。2、工艺条件范圍宽，作业环境相对良好，且能有效地实行自动控制。3、药效稳定，能连续运转和再生，使用寿命长。4、蚀刻系数大，侧蚀小。5、溶铜量大。6、污水处理较容易。蚀刻废液经铜回收后, 可补充有效成份,使其获得再生而被循环使用。氯化铜型蚀刻液的性能特点：按性质来分,可分为酸性蚀刻液和碱性蚀刻液两大类。酸性蚀刻液又可分为：单液型酸性蚀刻液和双液型酸性蚀刻液。用耐酸性抗蚀材料做抗蚀保护层时，使用的是酸性蚀刻液。用耐碱性抗电镀材料做抗电镀保护层（电镀锡或锡/铅）时,使用的是碱性蚀刻液。氯化铜型蚀刻液的性能特点：按性质来分...

提高酸性蚀刻液再生回用率的系统,其包括蚀刻产线,电解装置,添加装置,再生液调配装置以及再生液ORP提升装置,蚀刻产线的富铜酸性蚀刻废液经电解装置电解后成氯气和贫铜电解清液,贫铜电解清液与蚀刻产线的低ORP酸性蚀刻液混合形成再生酸性蚀刻液,再生液ORP提升装置对酸性蚀刻液进行逆流喷射,并与氯气碰撞,获得高ORP酸性蚀刻再生液再返回蚀刻产线。本申请通过再生液ORP提升装置的设置,获得高ORP酸性蚀刻再生液再返回蚀刻产线,以提高蚀刻产线上酸性蚀刻液的ORP,替代了传统蚀刻产线添加氧化剂与盐酸的方式,提高了蚀刻废液的再生回用率,降低了化学剂的使用和废水的排放。用耐碱性抗电镀材料做抗电镀保护层（电镀锡或...

蚀刻液是通过侵蚀材料的特性来进行雕刻的一种液体。业界采用的蚀刻液,主要分为酸性蚀刻液与碱性蚀刻液两种。酸性蚀刻液主要成分氯化铜、盐酸、氯化钠和氯化铵。碱性蚀刻液主要成分为氯化铜﹑氨水﹑氯化铵,补助成分为氯化钴、氯化钠、氯化铵或其它含硫化合物以改善特性。酸性蚀刻液的蚀刻速率易控制,蚀刻液在稳定状态下能达到高的蚀刻质量；溶铜量大；蚀刻液容易再生与回收，从而减少污染；而碱性蚀刻液的蚀刻速率快(可达70μm/min以上),侧蚀小；溶铜能力高,蚀刻容易控制；蚀刻液能连续再生循环使用,成本低。蚀刻废液属于危险液体废物，含有大量的铜、氯等污染成分。东莞酸碱蚀刻液回用及提铜厂家碱性蚀刻液再生循环技术实现步骤：...

碱蚀刻液再生循环及铜回收装置，解决现有再生循环技术循环时间短、阴极铜品位差等问题。为实现上述目的，本技术提供一种碱性蚀刻液再生循环及铜回收的装置，包括萃取单元、反萃单元、电解单元和调配单元；蚀刻缸内产生碱性蚀刻废液并经管道溢流进入蚀刻废液收集槽，所述萃取单元与蚀刻废液收集槽与相连且降低碱性蚀刻废液中铜离子含量；所述反萃单元与萃取单元相连且将萃取单元携带的铜离子变为易电解回收铜；所述电解单元与反萃单元相连且回收铜；所述调配单元与萃取单元相连且将经萃取后的蚀刻废液变为可使用的蚀刻添加子液，且所述调配单元还与蚀刻缸相连。碱性蚀刻液储罐和用于合成氯化铵的中和反应罐。龙岩酸碱蚀刻液回用及提铜哪家便宜蚀刻...

蚀刻速率：蚀刻速率慢会造成严重侧蚀。蚀刻质量的提高与蚀刻速率的加快有很大关系。蚀刻速度越快，板子在蚀刻液中停留的时间越短，侧蚀量越小，蚀刻出的图形清晰整齐。4)蚀刻液的PH值：碱性蚀刻液的PH值较高时，侧蚀增大。峁见图10-3为了减少侧蚀，一般PH值应控制在8。5以下。5)蚀刻液的密度：碱性蚀刻液的密度太低会加重侧蚀，见图10-4，选用高铜浓度的蚀刻液对减少侧蚀是有利的。6)铜箔厚度：要达到小侧蚀的细导线的蚀刻，好采用(超)薄铜箔。而且线宽越细， 铜箔厚度应越薄。因为，铜箔越薄在蚀刻液中的时间越短，侧蚀量就越小。被反萃后的蚀刻液则需添加极少量的补充剂，变成子液循环使用。景德镇线路板蚀刻液回用及...

蚀刻液电解提铜用钛阳极板在电解提铜中能高效地提高蚀刻液回收铜设备的回收量和效果，是一项专门为PCB行业的微蚀、蚀刻等工序而设计，使该工序成为清洁生产、节能减排，并大幅度降低生产成本。碱性蚀刻液提铜系统主要能实现生产药水的循环使用，节省生产物料成本，省去对废药水的贮存、转运、处理环节提高管理效率，基本达到高浓含铜废液的零排放符合国家对清洁生产、可持续发展的政策要求。设备还在生产药水循环使用的过程中将药水中所含的铜进行回收,还原成高纯度的电解铜，可直接售卖产生效益。铜蚀刻液的反应速度快、使用温度低、溶液使用寿命长，后处理容易，对环境污染小。温州酸碱蚀刻液回用及提铜设备生产厂家蚀刻废液的处理法：目前...

酸性蚀刻液再生回用系统,所述酸性蚀刻液再生回用系统包括:蚀刻工位,所述蚀刻工位设有相连通的蚀刻机缸和废液收集桶;电解工位,所述电解工位设有电解装置,所述电极装置包括由隔膜分隔的阳极室和阴极室,所述阴极室连通于所述废液收集桶;以及再生工位,所述再生工位设有相连通的再生子液调配缸和再生子液吸收桶,所述再生子液调配缸连通于所述阴极室,所述再生子液吸收桶连通于所述阳极室和所述蚀刻机缸。本发明的技术方案提升再生液回用率,并且减少再生回用系统中配制再生子液时加入的补加剂量,从而有效地避免了蚀刻液体积膨胀的现象发生。业界采用的蚀刻液,主要分为酸性蚀刻液与碱性蚀刻液两种。金华PCB蚀刻液回用及提铜多少钱不会产...

蚀刻液再生循环系统：在电子线路版（PCB）蚀刻过程中，蚀刻液中的铜含量渐渐增加。蚀刻液要达到较佳的蚀刻效果，每公升蚀刻液需含120至180克铜及相应分量的蚀刻盐（NH4CI）及氨水（NH3）。要持续蚀刻液中上述各种成份的浓度较佳水平，蚀刻用过后的（以下称[用后蚀刻液]）溶液需不断由添加的药剂所取缔。本系统将大量原本需要排放的用后蚀刻液再生还原成为可再次使用的再生蚀刻液。只需极少量的补充剂及氨水，补偿因运作时被带走而失去的部份。从而取代蚀刻子液，既可达到蚀刻工艺的要求，又可节省生产成本。凡能氧化铜而生成可溶性铜盐的试剂，都可以用来蚀刻敷铜箔板。广州线路板蚀刻液回用及提铜设备蚀刻液子液是一类没有任...

蚀刻液废水中含有大量的铜离子，对酸性蚀刻液废水末端处理时对废液需要采用电解处理将废液中的铜离子提出来，电解后得到的电清液直接中和排放，在对污泥进行处理时，需要重新配置酸性溶液倒入污泥中以及棕化液中，将其中的 铜离子释放出来，通过电解的方式提取出来，酸性电解液在配置这一过程中比较浪费水资源，在配置酸性溶液时也较为浪费原料。将电解后得到的电清液通入污泥稀释仓内，酸性电清液对污泥进行稀释，污泥内的铜离子可充分混入电清液内，避免对污泥电解处理时再次配置酸性溶液造成的原料浪费，在将稀释污泥时可将棕化液通入污泥内，同时对其进行稀释，稀释后的到的含有铜离子的废液重新通入电解罐内进行电解，电解后的电清液通入污...

蚀刻液再生实际上是印制电路板(PCB)蚀刻线上排出的蚀刻母液采用封闭式循环系统，经蚀刻液再生循环设备将其中的铜离子萃取出来再返回生产线的过程。在线路板的蚀刻过程中，蚀刻液中的铜离子浓度会逐渐升高而降低蚀刻效果，要使蚀刻液达到良好的蚀刻效果，就必须将蚀刻液中的铜离子（Cu2+）、硫酸根离子SO42l-）和PH值保持在一个合理稳定的范围内，要持续蚀刻液中上述各种成份的良好浓度，就需不断添加子液来取代已失去蚀刻能力的『废蚀刻液』即“母液”。而该系统则可将原本需要排放的母液即『废蚀刻液』再生成为新子液即『再生蚀刻液』，该系统现在主要采用的工艺是电解硫酸铜，主要流程是先用萃取剂萃取母液中的铜离子，富铜油...

酸碱蚀刻液再生回用及铜回收设备：把蚀刻液中铜分离出来，使其中的铜含量很大降低，这样，蚀刻废液中的铜含量降低以后，经调整可以回到蚀刻线上回用，而分离出来的铜可以经特殊的方式生成含99.95%的铜板.经本技术处理蚀刻废液,使废蚀刻液经再生,回到生产回用,这样企业不再购买蚀刻子液,实现污染物的零排放,同时获得高纯度铜板.运用本技术,在降低废液处理成本的同时,同时增加了可观的经济效益.经实际运行测算,一个2万平方的印制板的中型企业,经该技术处理后,每年可净样效益230-250万元,使企业实现良好的经济效益和生态效益.本公司根据不同企业的产能情况.可开发出不同型号的处理设备,其产能及效益(表),本公司有...

通过蚀刻再生的化学反应可以看出:[Cu(NH3)2]1+的再生需要有过量的NH3和NH4Cl存在。如果溶液中缺乏NH4Cl,而使大量的[Cu(NH3)2]1+得不到再生，蚀刻速率就会降低，以至失去蚀刻能力。所以，氯化铵的含量对蚀刻速率影响很大。随着蚀刻的进行，要不断补加氯化铵。但是，溶液中Cl-含量过高会引起抗蚀层被浸蚀。一般蚀刻液中NH4Cl含量在150g/l左右。蚀刻液温度低于40℃，蚀刻速率很慢，而蚀刻速率过慢会增大侧蚀量，影响蚀刻质量。温度高于60℃，蚀刻速率明显增大。但NH3的挥发量也很大程度增加，导致污染环境并使蚀刻液中化学组份比例失调。故一般应控制在45℃～55℃为宜。酸性蚀刻液...

蚀刻是印制电路板制造的重要工序，电路板厂生产过程中产生大量高铜蚀刻废液，蚀刻废液属于危险液体废物，含有大量的铜、氯等污染成分，如果不经过严格的处理就直接排放到环境中，不只造成资源的浪费和损失，而且也会对人类和自然环境造成很大的危害。另外，蚀刻废液中的铜离子及氯离子也具有很高的回收价值，在当今资源日益紧缺且环境形势日益严峻的境况下，如何严格并妥当处理这么大产量的废液是个十分重要的问题。从上世纪50年代起，印制电路板的制作过程中便出现了化学蚀刻这一步，用化学蚀刻的方法将基材上布置线路所用的多余的铜蚀刻下去，从而使得线路凸显在板材上，使得它形成一个完整的电路回路的过程就叫做蚀刻工艺。蚀刻废液,使废蚀...

蚀刻：将覆铜箔板表面由化学药水蚀刻去除不需要的铜导体，留下铜导体形成线路图形，这种减去法工艺是当前印制电路板加工的主流。蚀刻溶液： 目前是以氯化铜与盐酸的酸性氯化铜蚀刻液，及以氯化铜与氨水的碱性氯化铜蚀刻液为主流。蚀刻操作条件：蚀刻操作条件是对温度、压力、时间以及溶液浓度等工艺参数的控制，使蚀刻过程处于良好状态。蚀刻设备是围绕着生产效率、蚀刻速度和蚀刻均匀性而不断改进。目前主流是水平传送喷淋式。固定式：早期的设备是一个槽缸，存放蚀刻液后，将PCB板浸泡在里面。缺点：放板取板效率低；蚀刻效率低；无法做细线路，线条宽度/间距在0。5mm以上。新型酸性蚀刻液资源回收利用方法及回收利用系统,将酸性蚀刻...

Cu+含量的影响：根据蚀刻反应机理，随着铜的蚀刻就会形成一价铜离子。较微量的Cu+就会明显的降低蚀刻速率。所以在蚀刻操作中要保持Cu+的含量在一个低的范围内。 c、Cu2+含量的影响：溶液中的Cu2+含量对蚀刻速率有一定的影响。一般情况下，溶液中Cu2+浓度低于2mol/L时，蚀刻速率较低；在2mol/L时速率较高。随着蚀刻反应的不断进行，蚀刻液中铜的含量会逐渐增加。当铜含量增加到一定浓度时，蚀刻速率就会下降。为了保持蚀刻液具有恒定的蚀刻速率，必须把溶液中的含铜量控制在一定的范围内。 d、温度对蚀刻速率的影响：随着温度的升高，蚀刻速率加快，但是温度也不宜过高，一般控制在45~55℃范围内。温度...

碱性氯化铜蚀刻液：适用于图形电镀金属抗蚀层，如镀覆金、镍、锡铅合金，锡镍合金及锡的印制板的蚀刻。 蚀刻速率快，侧蚀小，溶铜能力高，蚀刻速率容易控制。蚀刻液可以连续再生循环使用，成本低。蚀刻过程中的主要化学反应：在氯化铜溶液中加入氨水，发生络合反应：CuCl2＋4NH3 →Cu(NH3)4Cl2在蚀刻过程中，板面上的铜被[Cu(NH3)4]2+络离子氧化，其蚀刻反应如下：Cu(NH3)4Cl2＋Cu →2Cu(NH3)2Cl所生成的[Cu(NH3)2]1+为Cu1+的络离子，不具有蚀刻能力。在有过量NH3和Cl-的情况下，能很快地被空气中的O2所氧化，生成具有蚀刻能力的[Cu(NH3)4]2+络...

酸性蚀刻液再生回用系统,所述酸性蚀刻液再生回用系统包括:蚀刻工位,所述蚀刻工位设有相连通的蚀刻机缸和废液收集桶;电解工位,所述电解工位设有电解装置,所述电极装置包括由隔膜分隔的阳极室和阴极室,所述阴极室连通于所述废液收集桶;以及再生工位,所述再生工位设有相连通的再生子液调配缸和再生子液吸收桶,所述再生子液调配缸连通于所述阴极室,所述再生子液吸收桶连通于所述阳极室和所述蚀刻机缸。本发明的技术方案提升再生液回用率,并且减少再生回用系统中配制再生子液时加入的补加剂量,从而有效地避免了蚀刻液体积膨胀的现象发生。从电路板蚀刻液回收硫酸铜及制作再生蚀刻液进行了工艺探索,得出中和法可从蚀刻液中脱除约90%的...

对于蚀刻液用法的理解,我们可以用个比较通俗的说法，那就是使用具有腐蚀性的一些化学材料对某种物品进行腐蚀，将不需要的部分腐蚀掉，从而将其雕刻成所需要的目标物品的过程。那这个具有腐蚀性的化学材料，就称为蚀刻液了。那专业的蚀刻液解释又是什么呢？蚀刻液是通过侵蚀材料的特性来进行雕刻的一种液体，是一种铜版画雕刻用原料。从理论上讲，凡能氧化钢而生成可溶性铜盐的试剂，都可以用来蚀刻敷铜箔板，但是蚀刻液用途要权衡对抗蚀层的破坏情况、蚀刻速度，溶液再生及铜的回收、环境保护及经济效果等各方面的影响因素选择合适的试剂。蚀刻液容易再生与回收，从而减少污染。景德镇酸碱蚀刻液回用及提铜服务碱性蚀刻液再生循环技术实现步骤：...

蚀刻液，是一种铜版画雕刻用原料。通过侵蚀材料的特性来进行雕刻的一种液体。从理论上讲，凡能氧化铜而生成可溶性铜盐的试剂，都可以用来蚀刻敷铜箔板，但权衡对抗蚀层的破坏情况、蚀刻速度，蚀刻系数、溶铜容量、溶液再生及铜的回收、环境保护及经济效果等方面。已经使用的蚀刻液类型有六种类型：酸性氯化铜、碱性氯化铜、氯化铁、过硫酸铵、硫酸/铬酸、硫酸/双氧水蚀刻液。酸性氯化铜，工艺体系，根据添加不同的氧化剂又可细分为盐酸化铜+空气体系、盐酸化铜+氯酸钠体系、盐酸化铜+双氧水体系三种蚀刻工艺，在生产过程中通过补加盐酸+空气、盐酸和氯酸钠、盐酸+双氧水和少量的添加剂来实现线路板板的连续蚀刻生产。蚀刻废液,使废蚀刻液...

从废铝蚀刻液中分级回收磷酸,醋酸和硝酸的方法,该方法包含以下步骤:通过减压蒸馏,使铝蚀刻液中醋酸和硝酸挥发出来,通过冷凝进行回收;通过在剩余磷酸溶液中添加添加剂,结晶,洗涤,溶解等得到高纯度磷酸;将收集到的含有醋酸和硝酸的馏出液中添加醋酸钠,经过蒸馏收集醋酸;将馏出醋酸的液体通过减压浓缩,结晶,过滤,干燥,获得硝酸钠成品。采用蒸馏,浓缩,重结晶等方法获得可重复利用的高纯度磷酸,回收醋酸,并将硝酸转化为可利用的硝酸钠,将铝蚀刻液中有用组分合理有效利用,避免资源浪费和环境污染,该方法回收率高,可操作性强,能满足大规模生产,很大程度的实现资源循环利用,避免铝蚀刻液的直接排放。根据蚀刻反应机理，随着铜...

从电路板蚀刻液回收硫酸铜及制作再生蚀刻液进行了工艺探索,得出中和法可从蚀刻液中脱除约90%的铜,沉淀氢氧化铜的良好pH值为5。6～6。0。采用水合肼还原法与硫化钠沉淀法可进一步脱除蚀刻液中的铜。研究结果表明,水合肼还原法回收海绵铜,在pH值为6。0,反应温度40℃,水合肼的投加浓度为3%时,铜的回收率达到了98%以上。而硫化钠沉淀法可取得99%以上脱除废液中的铜效果,且具有适应范围广,操作成本低的优势。进一步除铜后的废液可回用于制新蚀刻液。蚀刻液能连续再生循环使用,成本低。温州碱性蚀刻液回用及提铜设备哪家好碱性蚀刻液再生循环技术实现步骤：所述电解单元包含电解槽和反萃剂循环槽，所述反萃槽与反萃剂...

半导体装置、TFT-LED、OLED等微电路是通过在基板上形成的铝、铝合金、铜及铜合金等导电性金属膜或二氧化硅膜、氮化硅薄膜等绝缘膜上，均匀地涂抹光刻胶，然后通过刻有图案的薄膜，进行光照后成像，使所需的图案光刻胶成像，采用干式蚀刻或湿式蚀刻，在光刻胶下部的金属膜或绝缘膜上显示图案后，剥离去除不需要的光刻胶等一系列的光刻工程而完成的。大型显示器的栅极及数据金属配线所使用的铜合金阻抗低且没有环境问题，铜存在与玻璃基板及绝缘膜的粘附性较低，易扩散为氧化硅膜等问题，所以通常使用钛、钼等作为下部薄膜金属。但是，现有蚀刻液在蚀刻过程中，蚀刻的均一性很难把控，导致蚀刻锥角、蚀刻偏差及蚀刻直线度等特性失去，影...

蚀刻液提铜：PCB行业制作工序中产生大量微蚀液、蚀刻液、硝酸铜等含有不同浓度的铜等金属，回收价值高，且外排废水中也会有少量的铜重金属存在，如不能合理的进行环保处理，一方面造成资源的严重浪费，另一方面重金属排放后渗入至土壤及水源之中，即会对我们赖以生存的自然环境及自身的健康产生严重的污染和危害。近年来随着环保意识的增强，部门法规对于印制电路板工厂排放废水的各项指标限制日趋严谨，因此，印制电路板产业废水处理为达到铜离子的稳定达标排放标准，均以大量加药的手段来获得解决。但传统的加化学药剂，操作成本高，且造成大量铜污泥产生及排放废水导电度过高（溶解性盐类造成），导致废水回用难度加大或者根本无法回收使用...

酸性蚀刻液再生循环使用铜回收设备,它涉及酸性蚀刻液回收设备领域,膜电解槽与阴阳极循环槽连接,阴阳极循环槽与蚀刻液参数控制装置连接,蚀刻液参数控制装置与蚀刻生产线连接,蚀刻生产线与蚀刻废液收集缸连接,蚀刻废液收集缸与蚀刻废液储罐连接,蚀刻废液储罐与膜电解槽连接。它采用离子膜电解工艺来再生蚀刻液及回收铜板,该工艺是一种在线式的再生工艺,即将电解再生设备与蚀刻机串联,再生反应和蚀刻反应这对互为可逆的反应依次循环进行,再生后蚀刻液可循环使用,再生药水稳定性好,蚀刻因子合格,回用后可节省氧化剂7090%,节省盐酸5070%,减少70%蚀刻废液排放。碱性蚀刻液循环再生回用装置,具有废液暂存槽、三级萃取槽、...

涉及酸性蚀刻液技术领域,尤其为一种酸性蚀刻液循环回用装置,包括回用装置主体,除杂室,隔板以及分离室,所述密封外壳上方固定安装有安装架,所述安装架内部固定安装有除菌棉层,所述除菌棉层顶部固定安装有杂质滤层,所述隔板另一侧固定开设有分离室,所述分离室内部顶端固定安装有电机,所述泵机底部固定安装有旋转轴,所述旋转轴底部固定安装有固定架,所述固定架下方固定安装有高分子透析层,所述隔板内部固定开设有管道,实用新型通过设置的高分子透析层,在设备使用时,通过泵机抽取初步过滤的酸性蚀刻液,通过高分子透析层过滤出金属物质,达到分离液体与金属的目的,使得设备使用时,达到回用且排放达标的目的。酸性蚀刻液因具有侧蚀小...

提高酸性蚀刻液再生回用率的系统,其包括蚀刻产线,电解装置,添加装置,再生液调配装置以及再生液ORP提升装置,蚀刻产线的富铜酸性蚀刻废液经电解装置电解后成氯气和贫铜电解清液,贫铜电解清液与蚀刻产线的低ORP酸性蚀刻液混合形成再生酸性蚀刻液,再生液ORP提升装置对酸性蚀刻液进行逆流喷射,并与氯气碰撞,获得高ORP酸性蚀刻再生液再返回蚀刻产线。本申请通过再生液ORP提升装置的设置,获得高ORP酸性蚀刻再生液再返回蚀刻产线,以提高蚀刻产线上酸性蚀刻液的ORP,替代了传统蚀刻产线添加氧化剂与盐酸的方式,提高了蚀刻废液的再生回用率,降低了化学剂的使用和废水的排放。酸性蚀刻液，是一种铜版画雕刻用原料。遂宁酸...

蚀刻液是通过侵蚀材料的特性来进行雕刻的一种液体。业界采用的蚀刻液,主要分为酸性蚀刻液与碱性蚀刻液两种。酸性蚀刻液主要成分氯化铜、盐酸、氯化钠和氯化铵。碱性蚀刻液主要成分为氯化铜﹑氨水﹑氯化铵,补助成分为氯化钴、氯化钠、氯化铵或其它含硫化合物以改善特性。酸性蚀刻液的蚀刻速率易控制,蚀刻液在稳定状态下能达到高的蚀刻质量；溶铜量大；蚀刻液容易再生与回收，从而减少污染；而碱性蚀刻液的蚀刻速率快(可达70μm/min以上),侧蚀小；溶铜能力高,蚀刻容易控制；蚀刻液能连续再生循环使用,成本低。蚀刻液主要包括酸性蚀刻液和碱性蚀刻液。江门PCB蚀刻液回用及提铜设备厂家蚀刻液子液是一类没有任何磷、氯添加剂的水基...

酸性蚀刻液，是一种铜版画雕刻用原料。通过侵蚀材料的特性来进行雕刻。主要成分：氯化铜、氨水、氯化氨,，补助成分为氯化钻、氯化钠、氯化胺或其它含硫化合物以改善特性。适用领域：一般适用于多层印制板的内层电路图形的制作及纯锡印制板的蚀刻。主要特点：蚀刻速率快，可达每分钟70微米以上；溶铜能力高，蚀刻容易控制；蚀刻液能连续再生循环使用，成本低。以酸性氯化铜蚀刻液为例。酸性氯化铜，根据添加不同的氧化剂又可细分为盐酸化铜与空气体系、盐酸化铜与氯酸钠体系、盐酸化铜与双氧水体系三种蚀刻工艺，在生产过程中通过补加盐酸与空气、盐酸与氯酸钠、盐酸与双氧水和少量的添加剂来实现线路板板的连续蚀刻生产。蚀刻废液属于危险液体...

氢氧化钾(KOH)和添加剂2-丙醇(异丙醇，IPA)通常用于单晶硅片的碱性织构化，以减少其反射。氢氧化钾和异丙醇在水中的蚀刻混合物需要明确定义氢氧化钾和异丙醇的水平，以消除锯损伤，并获得完全随机金字塔覆盖的纹理。蚀刻速率和纹理化工艺取决于镀液温度、氢氧化钾浓度、硅浓度和异丙醇浓度等。在此过程中，由于异丙醇的沸点较低(82℃)，镀液的组成发生了变化。在这个过程中它很容易蒸发，必须定期重做。为了简化添加剂和获得更高的初始异丙醇浓度，应该测量和控制它。这可以通过高效液相色谱(HPLC)作为直接方法或表面张力作为间接方法来实现。异丙醇具有表面活性，可降低溶液的表面张力。由于异丙醇被频繁重做，纹理浴的异...