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金华碱性蚀刻液回用及提铜设备

来源: 发布时间:2022年06月28日

碱性氯化铜蚀刻液:适用于图形电镀金属抗蚀层,如镀覆金、镍、锡铅合金,锡镍合金及锡的印制板的蚀刻。 蚀刻速率快,侧蚀小,溶铜能力高,蚀刻速率容易控制。蚀刻液可以连续再生循环使用,成本低。蚀刻过程中的主要化学反应:在氯化铜溶液中加入氨水,发生络合反应:CuCl2+4NH3 →Cu(NH3)4Cl2在蚀刻过程中,板面上的铜被[Cu(NH3)4]2+络离子氧化,其蚀刻反应如下:Cu(NH3)4Cl2+Cu →2Cu(NH3)2Cl所生成的[Cu(NH3)2]1+为Cu1+的络离子,不具有蚀刻能力。在有过量NH3和Cl-的情况下,能很快地被空气中的O2所氧化,生成具有蚀刻能力的[Cu(NH3)4]2+络离子,其再生反应如下:2Cu(NH3)2Cl+2NH4Cl+2NH3+1/2 O2 →2Cu(NH3)4Cl2+H2O从上述反应可看出,每蚀刻1克分子铜需要消耗2克分子氨和2克分子氯化铵。因此,在蚀刻过程中,随着铜的溶解,应不断补加氨水和氯化铵。蚀刻液在稳定状态下能达到高的蚀刻质量的特性。金华碱性蚀刻液回用及提铜设备

常见酸性蚀刻废液电解处理的困扰酸性lu化铜蚀刻工艺为现时电路板行业中常用的蚀刻工艺,其蚀刻废液的主要成分为lu化铜、lu化亚铜、盐酸及其他lu化盐等,铜离子浓度通常为120g/L左右.目前业界对此蚀刻废液的处理方法为收集后统一交给危险化学废物回收公司进行处理,也有部分电路板生产厂家使用电解法自行处理.在现有电解回收工艺过程中,其阴极板上产生的金属铜可被回收利用,而阳极板上所析出的大量有毒lu气则几乎无法有效地被循环回用到蚀刻生产线上,只能作外排处理.无法真正实现循环再用的环保工艺要求.其次,为了在电解过程中使其电解液尽量能够吸收更多lu气,唯有光靠降低蚀刻液的氧化还原电位不惜蚀刻生产效率来实现目的,这种工艺方法是不可取的。金华碱性蚀刻液回用及提铜设备蚀刻液废水中含有大量的铜离子,对酸性蚀刻液废水末端处理时对废液需要采用电解处理将废液中的铜离子提出。

蚀刻液提铜:PCB行业制作工序中产生大量微蚀液、蚀刻液、硝酸铜等含有不同浓度的铜等金属,回收价值高,且外排废水中也会有少量的铜重金属存在,如不能合理的进行环保处理,一方面造成资源的严重浪费,另一方面重金属排放后渗入至土壤及水源之中,即会对我们赖以生存的自然环境及自身的健康产生严重的污染和危害。近年来随着环保意识的增强,部门法规对于印制电路板工厂排放废水的各项指标限制日趋严谨,因此,印制电路板产业废水处理为达到铜离子的稳定达标排放标准,均以大量加药的手段来获得解决。但传统的加化学药剂,操作成本高,且造成大量铜污泥产生及排放废水导电度过高(溶解性盐类造成),导致废水回用难度加大或者根本无法回收使用的后续问题。

酸性蚀刻再生采用“离子膜电解铜”工艺。该工艺是用离子膜将电解槽的阳极区和阴极区分隔成两个单独的区域;阳极区为废蚀刻液再生区,它将降铜后的废蚀刻液中的一价铜离子通过电化学反应生成二价铜离子,使废蚀刻液获得再生;阴极区为铜回收区,通过离子隔膜有选择性的使溶液中的离子定向迁移,让溶液中的铜离子得到电子还原成金属铜。微蚀废液回收铜系统设备是针对微蚀体系对铜表面加工后所产生的废液进行电解处理的设备。采用电解破除氧化剂——电沉积铜工艺来处理微蚀废液。电解破除氧化剂工艺是使用设备后微蚀废液在电极阴极的还原作用下使过硫酸钠、过硫酸铵和双氧水等氧化剂被还原,由较高浓度降低为0。电沉积铜工艺是在氧化剂降低为0后,使用设备使微蚀废液在电极阴极的还原作用下把Cu2+ 还原为单质铜,使废液Cu2+ 浓度降低95%以上易于废水处理排放,减轻环保处理Cu2+ 的压力,并在过程中得到有经济价值的副产物——电解板状铜(纯度大于99。95%)。酸性蚀刻液技术领域,尤其为一种酸性蚀刻液循环回用装置,包括回用装置主体,除杂室,隔板以及分离室。

蚀刻液回收氯化铵的处理系统,包括中和处理段、压滤段、离子交换处理段、蒸发段和后处理段;中和处理段包括酸性蚀刻液储罐、碱性蚀刻液储罐和用于合成氯化铵的中和反应罐,中和反应罐上设有出料口、与酸性蚀刻液储罐连通的酸液入口和与碱性蚀刻液储罐连通的碱液入口;压滤段包括用于分离出氯化铵溶液的压滤装置,压滤装置上设有进料口和滤液口,进料口与中和反应罐的出料口连通;离子交换处理段包括用于分离氯化铵和铜离子的离子交换柱,离子交换柱呈波浪形,且离子交换柱包括对称设置的首半柱和第二半柱,首半柱和第二半柱可拆卸连接,且首半柱和第二半柱之间密封形成用于存放离子交换树脂的管道,管道的两端分别设有进液口和出液口,进液口与滤液口连通;蚀刻液能满足抗蚀保护层(或抗电镀保护层)的性能要求。金华碱性蚀刻液回用及提铜设备

蚀刻液一般分为酸性蚀刻液和碱性蚀刻液两种。金华碱性蚀刻液回用及提铜设备

铜蚀刻液适用于印制版铜的蚀刻,蚀刻速度快。蚀刻速度达4~5um/min。废液回收简单,普遍用于印制板,线路板。本剂也可用于铜工艺品等的蚀刻。蚀刻后的板面平整而光亮。铜蚀刻液的反应速度快、使用温度低、溶液使用寿命长,后处理容易,对环境污染小。用于铜质单面板,双面板、首饰蚀刻,可以蚀刻出任意精美的形态,有效提高蚀刻速度,节约人工水电。常常应用于印刷线路板铜的蚀刻处理。蚀刻速度快,效率高。使用方便。蚀刻速度可达10微米/分钟。可循环使用,无废液排放。金华碱性蚀刻液回用及提铜设备

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