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刻蚀微透镜技术，是将光刻定义的平面图案转化为具有特定曲面轮廓的三维微透镜结构的关键工艺步骤。该技术通常采用反应离子刻蚀（RIE）或...
微米级基因测序芯片，是首代和第二代固相芯片技术的主流形态，其表面功能单元特征尺寸处于微米量级。这类芯片的制造工艺相对成熟，通常采用...
自主移动机器人与工业机械臂对视觉系统的小型化、轻量化与环境适应性有较高要求，超透镜凭借其紧凑外形与设计灵活性成为机器人视觉系统的理...
深度 200nm WGP 采用分段刻蚀修整栅槽内部形貌，消除深度不均衡引发的光路局部损耗，金属栅嵌入基板栅槽内部，结构抗摩擦能力优...
基因测序芯片的基底材料选择，需要综合考虑光学性能、表面化学特性、热学性能、机械强度以及与微纳加工工艺的兼容性。玻璃（如石英玻璃）因...
江苏优众微纳半导体科技有限公司是一家依托自主纳米压印技术,基于成熟稳定的半导体制程工艺,为客户提供专业半导体微纳器件一站式解决方案的科技创新型企业。公司在江苏南通和浙江舟山共拥有近20000平米的标准半导体Fab工厂,车间涵盖湿法、清洗、光刻、纳米压印、镀膜、CMP、刻蚀、检测等各种工艺制程,累计固定资产投入近5亿元。
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