光通信与传感领域的蓬勃发展,催生了丰富多样的应用场景,进而对硅V槽产品提出了差异化、个性化的需求。江苏优众微纳半导体科技有限公司依托其灵活的半导体制程平台,构建了面向多元化应用场景的柔性制造能力,能够...
刻蚀微透镜技术,是将光刻定义的平面图案转化为具有特定曲面轮廓的三维微透镜结构的关键工艺步骤。该技术通常采用反应离子刻蚀(RIE)或电感耦合等离子体刻蚀(ICP)等干法刻蚀手段,通过高能离子束对基底材料...
深度 200nm WGP 采用分段刻蚀修整栅槽内部形貌,消除深度不均衡引发的光路局部损耗,金属栅嵌入基板栅槽内部,结构抗摩擦能力优于常规浅栅结构。光束经过元件时杂散光得到有效抑制,提升成像与光信号采集...
在夜视观察与头戴式显示系统中,出瞳尺寸的大小直接关系到使用者观看的舒适性与视场覆盖范围。二维扩瞳微纳光栅结构通过在不同方向上对光束进行多次扩展,有效增大了系统的出瞳直径,为夜视设备提供了更宽松的眼部定...