电子行业: 在半导体制造和集成电路制作中,利用镍靶材的高纯度和良好的电导性能,可以生产高质量的导电层。建议在控制良好的环境下使用,以维持材料的纯净和稳定。磁性材料应用: 由于其独特的铁磁性质,镍靶材适...
靶材,就像它的名字暗示的那样,可以想象成射箭时箭靶的那块区域,只不过在我们讨论的科学和工业领域里,这个“箭靶”被用于非常特殊的目的。在物理、材料科学或者电子制造等行业中,靶材是一块通常由金属或其他材料...
靶材由“靶坯”和“背板”焊接而成。(1)靶坯是高速离子束流轰击的目标材料,属于溅射靶材的主要部分,涉及高纯金属、晶粒取向调控。在溅射镀膜过程中,靶坯被离子撞击后,其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上...
从ITO靶材的发展趋势来看:1)大尺寸化,在需要大面积镀膜时,通常将小尺寸靶材拼接焊接成大尺寸靶材,由于具有焊缝,靶材镀膜质量将降低;2)高密度化,在溅射过程中ITO靶材表面会出现结瘤现象,如果继续溅...
靶材是半导体、显示面板、异质结光伏领域等的关键材料,存在工艺不可替代性。据测算 2019年全球靶材市场规模在 160 亿美元左右,而国内总需求占比超 30%。本土厂商供给约占国内市场的 30%,以中低...
磁控溅射镀膜是一种新型的气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上,使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材溅射是制备薄膜...
靶材开裂影响因素裂纹形成通常发生在陶瓷溅射靶材(如氧化物、碳化物、氮化物等)和脆性材料溅射靶材(如铬、锑、铋等)中。陶瓷或脆性材料目标始终包含固有应力。这些内应力是在靶材制造过程中产生的。此外,这些应...
IGZO由In2O3、Ga2O3和ZnO相互掺杂得到,是一种透明金属氧化物半导体材料。IGZO为n型半导体材料,存在3.5 eV左右的带隙,电子迁移率比非晶硅高1~2个数量级,其比较大特点是在非晶状态...