酸性蚀刻液再生回用系统,所述酸性蚀刻液再生回用系统包括:蚀刻工位,所述蚀刻工位设有相连通的蚀刻机缸和废液收集桶;电解工位,所述电解工位设有电解装置,所述电极装置包括由隔膜分隔的阳极室和阴极室,所述阴极...
蚀刻液再生实际上是印制电路板(PCB)蚀刻线上排出的蚀刻母液采用封闭式循环系统,经蚀刻液再生循环设备将其中的铜离子萃取出来再返回生产线的过程。在线路板的蚀刻过程中,蚀刻液中的铜离子浓度会逐渐升高而降低...
蚀刻:将覆铜箔板表面由化学药水蚀刻去除不需要的铜导体,留下铜导体形成线路图形,这种减去法工艺是当前印制电路板加工的主流。蚀刻溶液: 目前是以氯化铜与盐酸的酸性氯化铜蚀刻液,及以氯化铜与氨水的碱性氯化铜...
碱性氯化铜蚀刻液:适用于图形电镀金属抗蚀层,如镀覆金、镍、锡铅合金,锡镍合金及锡的印制板的蚀刻。 蚀刻速率快,侧蚀小,溶铜能力高,蚀刻速率容易控制。蚀刻液可以连续再生循环使用,成本低。蚀刻过程中的主要...
酸性蚀刻液再生回用系统,所述酸性蚀刻液再生回用系统包括:蚀刻工位,所述蚀刻工位设有相连通的蚀刻机缸和废液收集桶;电解工位,所述电解工位设有电解装置,所述电极装置包括由隔膜分隔的阳极室和阴极室,所述阴极...
半导体装置、TFT-LED、OLED等微电路是通过在基板上形成的铝、铝合金、铜及铜合金等导电性金属膜或二氧化硅膜、氮化硅薄膜等绝缘膜上,均匀地涂抹光刻胶,然后通过刻有图案的薄膜,进行光照后成像,使所需...
提高酸性蚀刻液再生回用率的系统,其包括蚀刻产线,电解装置,添加装置,再生液调配装置以及再生液ORP提升装置,蚀刻产线的富铜酸性蚀刻废液经电解装置电解后成氯气和贫铜电解清液,贫铜电解清液与蚀刻产线的低O...
氢氧化钾(KOH)和添加剂2-丙醇(异丙醇,IPA)通常用于单晶硅片的碱性织构化,以减少其反射。氢氧化钾和异丙醇在水中的蚀刻混合物需要明确定义氢氧化钾和异丙醇的水平,以消除锯损伤,并获得完全随机金字塔...
废蚀刻液中富含金属铜离子,长期以来都采用传统的化学法处理废液来回收铜,其残液的排放会造成严重的二次污染,给周边环境带来极大的影响和压力,同时处理废液浪费大量的碱液,把可回收的酸也浪费,不能做到资源节约...
酸性蚀刻液,是一种铜版画雕刻用原料。通过侵蚀材料的特性来进行雕刻。主要成分:氯化铜、氨水、氯化氨,,补助成分为氯化钻、氯化钠、氯化胺或其它含硫化合物以改善特性。适用领域:一般适用于多层印制板的内层电路...
蚀刻液的浓度,应根据金属腐蚀原理和铜箔的结构类型,通过试验方法确定浓度,它应有较大的选择余地。蚀刻液的化学成分的组成,化学组分不同,其蚀刻速率就不相同,蚀刻系数也不同,酸性氯化铜蚀刻系数通常为3;而碱...
碱性蚀刻液循环再生回用装置,机架,废液暂存槽,所述机架侧面设置有控制器,所述机架上方设置有电解反应槽,所述电解反应槽内部设置有硫酸铜反萃液槽,所述硫酸铜反萃液槽与所述电解反应槽之间设置有单向膜,所述电...