氧化铌由于其独特的物理和化学性质而被广地应用于现代技术的许多领域。例如,利用其较强的紫外线吸收能力,可将其用作紫外敏感材料的保护膜;利用其薄膜折射率较高的特性,可与SiO2等配合可制备具有不同折射率的薄膜。由于这些明显的优点,氧化铌靶材被广地应用于太阳能电池、液晶显示器、离子显示器、收集触屏、光学玻璃、气体传感器等众多领域。随着科技的不断发展以及应用领域的不断延伸,氧化铌靶材的需求量也不断增大。目前,市场上使用的多的是氧化铌平面靶材,大都采用真空热压法来制备。但是采用该方法,氧化铌靶坯厚度较大,加工过程中需要通过机加工剖片工艺加工达到所需的厚度要求。靶材间隙对大面积镀膜的影响除了致密化,如果靶材在生产过程中出现异常,大颗粒会因受热而脱落或缩孔。ITO陶瓷靶材市场价
主要PVD方法的特点:(3)溅射镀膜:在溅射镀膜过程中,溅射靶材需要安装在机台中完成溅射反应,溅射机台专业性强、精密度高,市场长期被美国、日本跨国集团垄断。(4)终端应用:1)半导体芯片:单元器件中的介质层、导体层与保护层需要钽、钨、铜、铝、钛等金属。2)平板显示器件:为了保证大面积膜层的均匀性,提高生产率和降低成本,溅射技术镀膜需要钼、铝、ITO等材料;3)薄膜太阳能电池——第三代,溅射镀膜工艺是被优先选用的制备方法,靶材是不可或缺的原材料;4)计算机储存器:磁信息存储、磁光信息存储和全光信息存储等。在光盘、机械硬盘等记录媒体,需要用铬基、钴基合金等金属材料。ITO陶瓷靶材市场价磁控溅射的工作原理简单说就是利用磁场与电场交互作用。
制备一种同质双层氧化铪减反膜,属于光学薄膜技术领域。本发明在透明或半透明基底上依次沉积高折射率的致密氧化铪层和低折射率的多孔氧化铪层。两层氧化铪的折射率由电子束蒸镀的入射角度控制,厚度根据基底不同而调节。本发明采用电子束蒸镀方法,并且双层减反膜由同种材料制成,制备成本低、效率高。该双层氧化铪减反膜对于可见光范围内的多角度入射光均具有很好的减反增透能力,可用于降低窗板、触屏电极或液晶显示屏等表面的反射,具有广的应用前景。
通常靶材变黑引起中毒的因素靶材中毒主要受反应气体和溅射气体比例的影响。在反应溅射过程中,靶材表面的溅射通道区域被反应产物覆盖或反应产物被剥离,金属表面重新暴露。如果化合物的形成速率大于化合物被剥离的速率,则化合物覆盖面积增加。在一定功率的情况下,参与化合物生成的反应气体量增加,化合物生成速率增加。如果反应气体量增加过多,复合覆盖面积增加,如果反应气体流量不能及时调整,复合覆盖面积增加的速度不会受到抑制,溅射通道将被化合物进一步覆盖。当溅射靶材完全被化合物覆盖时,靶材将完全中毒。靶材中毒变黑的影响a、正离子积聚:当靶材中毒时,在靶材表面形成绝缘膜。当正离子到达阴极靶表面时,由于绝缘层的阻挡,它们不能直接进入阴极靶表面。相反,它们沉积在靶材表面,很可能产生电弧放电——在冷场中产生电弧,使阴极溅射无法进行。b、阳极消失:当靶材中毒时,地面真空室壁上沉积绝缘膜,到达阳极的电子不能进入阳极,形成阳极消失现象。通常靶材变黑引起中毒的因素靶材中毒主要受反应气体和溅射气体比例的影响。
磁控溅射时靶材表面变黑我们可以想到的1、可能靶材是多孔的,(细孔)在孔中有一些有机污染物(极端可能性);2、可能靶材有点粗糙,用纸巾用异丙醇擦拭,粗糙的表面在目标表面保留了一些细薄的组织纤维,这可能是碳污染的来源;3、沉积速率可能相当高,并产生非常粗糙的沉积物;4、基板与靶材保持非常接近,在目前的溅射条件下(功率、压力、子靶材距离)有一些发热,气体中有一些污染;5、真空室漏气或漏水,真空室内有挥发的成分,没有充入氩气,充入空气或其他气体,可能引起中毒,这些成分与靶材反应,变成黑色物质覆盖靶材表面。靶材是半导体、显示面板、异质结光伏领域等的关键材料,存在工艺不可替代性。ITO陶瓷靶材市场价
IGZO作为TFT沟道材料比多晶硅和非晶硅更符合显示器大尺寸化、高清、柔性和低能耗的未来发展趋势。ITO陶瓷靶材市场价
从整体上看,ITO在光电综合性能上高于AZO靶材,但AZO靶材的优势或将为靶材带来降本空间。在相关实验中利用AZO靶材和ITO靶材制备了3组实验薄膜(共6份样品)。实验中主要从光学性能和电学性能上对AZO薄膜和ITO薄膜进行了对比。在特定情况下AZO靶材与ITO靶材电学性能差距缩小。根据比较终实验数据来看,AZO薄膜和ITO薄膜的方块电阻以及电阻率随着薄膜的厚度增加而降低,并且随着薄膜厚度的增加,AZO薄膜与ITO薄膜方块电阻以及电阻率之间的差距逐步缩小。当AZO薄膜厚度为640nm时,方块电阻以及电阻率为32Ω•sq-1和20.48*10-4Ω•cm。AZO薄膜光学性能优于ITO薄膜。ITO薄膜的光学性能随着厚度的增加明显变差,但是对于AZO薄膜,透射率并没有随着厚度的增加而明显下降,在厚度为395nm时,高透射率光谱范围比较宽,可见光区平均透射率比较高,光学总体性能比较好,可充当透射率要求在85%以上的宽光谱透明导电薄膜的光学器件ITO陶瓷靶材市场价
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