云南定制Mitsubishi三菱IGBT模块报价

    模块的内部等效电路多个管芯并联时，栅极已经加入栅极电阻，实际的等效电路如图2所示。不同制造商的模块，栅极电阻的阻值也不相同；不过，同一个模块内部的栅极电阻，其阻值是相同的。图2单管模块内部的实际等效电路图IGBT单管模块通常称为1in1模块，前面的“1”表示内部包含一个IGBT管芯，后面的“1”表示同一个模块塑壳之中。2.半桥模块，2in1模块半桥（Halfbridge）模块也称为2in1模块，可直接构成半桥电路，也可以用2个半桥模块构成全桥，3个半桥模块也构成三相桥。因此，半桥模块有时候也称为桥臂（Phase-Leg）模块。图3是半桥模块的内部等效。不同的制造商的接线端子名称也有所不同，如C2E1可能会标识为E1C2，有的模块只在等效电路图上标识引脚编号等。图3半桥模块的内部等效电路半桥模块的电流/电压规格指的均是其中的每一个模块单元。如1200V/400A的半桥模块，表示其中的2个IGBT管芯的电流/电压规格都是1200V/400A，即C1和E2之间可以耐受高2400V的瞬间直流电压。不仅半桥模块，所有模块均是如此标注的。3.全桥模块，4in1模块全桥模块的内部等效电路如图4所示。图4全桥模块内部等效电路全桥（Fullbridge）模块也称为4in1模块，用于直接构成全桥电路。反之，加反向门极电压消除沟道，切断基极电流，使IGBT关断。云南定制Mitsubishi三菱IGBT模块报价

    消除了导通电阻中jfet的影响。同时缩小了原胞尺寸即步进(pitch)，提高原胞密度，每个芯片的沟道总宽度增加，减小了沟道电阻。另一方面，由于多晶硅栅面积增大，减少了分布电阻，有利于提高开关速度。igbt的饱和压降(vcesat)和关断损耗以及抗冲击能力是衡量igbt器件的几个重要指标。饱和压降是衡量igbt产品导通损耗的重要参数，降低igbt饱和压降可以有效降低igbt功率损耗，减小产品发热，提高功率转换效率。耐压特性也是是产品的重要参数之一。降低关断损耗可以限度的降低igbt在高频下的功率损耗。igbt产品抗冲击能力的主要体现就是产品抗短路能力，是体现产品可靠性的重要参数指标。随着技术的发展，对igbt的性能要求越来越高，如何更加灵活地调整饱和压降(vcesat)与关断损耗(eoff)的折中关系，在保证饱和压降不增大的前提下更好的优化开关损耗，同时提高器件的抗冲击能力以实用于高功率转换领域，成为本领域技术人员一直求的目标。技术实现要素：本发明所要解决的技术问题是提供一种igbt器件，能同时改善器件的饱和压降、关断损耗以及抗冲击的性能。为此，本发明还提供一种igbt器件的制造方法。为解决上述技术问题，本发明提供的igbt器件包括：漂移区。云南定制Mitsubishi三菱IGBT模块报价IGBT在关断过程中，漏极电流的波形变为两段。

    为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种igbt驱动电路，包括限压电路、控制电路和限流电路。，所述限压电路、所述控制电路和所述限流电路相并联。，所述限压电路包括：一齐纳二极管；第二齐纳二极管，所述第二齐纳二极管与所述一齐纳二极管串联。，所述控制电路包括限压电路控制输入lp、电阻r2、下拉电阻r3和控制管n3，所述限压电路控制输入lp与所述电阻r2串联，所述电阻r2与所述控制管n3相串联，所述下拉电阻r3并联在所述电阻r2与所述控制管n3之间。，所述限流电路包括电阻r1和正向二极管n22，所述电阻r1与所述正向二极管n22相串联。与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明将分立器件实现的限压电路集成在芯片中，节省了面积，降低了成本，将限压电路与igbt的驱动电路结合在一个功能块里进一步节省了面积和成本，同时借助igbt的驱动电路中的电阻限制了限压支路的电流，降低了功耗，保护了驱动芯片的安全，lp接收到mcu的信号置高时，限压电路开始工作，a点电压被限压在设定所需要的电压u1，如希望igbt驱动输出限制在12v，此时a电压的设定u1＝12v+vbe，b点电压为u2＝12v+2vbe，终c点电压为12v，此时限压部分的支路电流被限制在(vcc-u2)/r1以下。

    下拉电阻r3并联在电阻r2与控制管n3之间，控制限压功能的工作与否；请再次参阅图1，限流电路300包括电阻r1和正向二极管n22，电阻r1与正向二极管n22相串联，限压电路100、控制电路200和限流电路300相并联，限制限压部分的电流大小，解决了分立器件限压电路集成在驱动输出端导通时出现的较大电流现象，不降低了工作损耗，减小了分立器件的成本、也提高了芯片使用的寿命。使用时，当lp接收到mcu的信号置高时，限压电路开始工作，a点电压被限压在设定所需要的电压u1，如希望igbt驱动输出限制在12v，此时a电压的设定u1＝12v+vbe，b点电压为u2＝12v+2vbe，终c点电压为12v，此时限压部分的支路电流被限制在(vcc-u2)/r1以下，在常规的igbt驱动中增加了限压电路的功能结构，实现了对igbt的功耗的降低，保护了igbt管，将通常分立器件实现方式的限压电路集成在芯片中，与igbt驱动电路集成在一起，节省了面积和成本，同时还能解决分立器件稳压管接在驱动输出处，当导通时较大电流的问题。虽然在上文中已经参考实施例对本发明进行了描述，然而在不脱离本发明的范围的情况下，可以对其进行各种改进并且可以用等效物替换其中的部件。尤其是，只要不存在结构。IGBT综合了以上两种器件的优点，驱动功率小而饱和压降低。

    这样能降低栅电容，增强器件短路电流的能力，提高器件的抗冲击能力。3、本发明一实施例还设置了电荷存储层14，电荷存储层14结合第二屏蔽电极结构能更好的防止集电区9注入的少子进入到沟道区域中，从而能降低降低器件的饱和压降。本发明第二实施例igbt器件：如图2所示，是本发明实施例第二实施例igbt器件的结构示意图，本发明第二实施例igbt器件包括：本发明第二实施例器件和本发明一实施例器件的区别之处为，本发明第二实施例器件中，在各所述单元结构中，所述源极接触孔11和邻近的一个所述屏蔽接触孔合并成一个接触孔，邻近的所述屏蔽接触孔外侧的所述屏蔽接触孔11a呈结构。本发明一实施例方法：如图3a至图3g所示，是本发明一实施例方法各步骤中器件的结构示意图，本发明一实施例igbt器件的制造方法包括如下步骤：步骤一、如图3a所示，提供一半导体衬底，在所述半导体衬底表面形成由一导电类型轻掺杂区组成的漂移区1。所述半导体衬底为硅衬底。在所述硅衬底表面形成有硅外延层，所述漂移区1直接由一导电类型轻掺杂的所述硅外延层组成，所述阱区2形成于所述漂移区1表面的所述硅外延层中。步骤二、如图3a所示，在所述半导体衬底中形成多个沟槽101。MOSFET驱动功率很小，开关速度快，但导通压降大，载流密度小。云南定制Mitsubishi三菱IGBT模块报价

减小N-层的电阻，使IGBT在高电压时，也具有低的通态电压。云南定制Mitsubishi三菱IGBT模块报价

    所述阱区位于所述漂移区表面。所述电荷存储层位于所述漂移区的顶部区域且位于所述漂移区和所述阱区交界面的底部，所述电荷存储层具有一导电类重掺杂；所述电荷存储层用于阻挡第二导电类载流子从所述漂移区中进入到所述阱区中。各所述沟槽穿过所述阱区和所述电荷存储层且各所述沟槽的进入到所述漂移区中；被所述多晶硅栅侧面覆盖的所述阱区的表面用于形成沟道。步骤八、采用光刻定义加一导电类型重掺杂离子注入工艺在所述多晶硅栅两侧的所述阱区的表面形成发射区。步骤九、形成层间膜、接触孔、正面金属层，所述接触孔穿过所述层间膜；对所述正面金属层进行图形化形成金属栅极和金属源极。所述多晶硅栅通过顶部对应的接触孔连接到所述金属栅极。所述发射区通过顶部的对应的接触孔连接到所述金属源极；令所述发射区顶部对应的接触孔为源极接触孔，所述源极接触孔还和穿过所述发射区和所述阱区接触。所述一屏蔽多晶硅和所述第二屏蔽多晶硅也分布通过对应的接触孔连接到所述金属源极。步骤十、对所述半导体衬底进行背面减薄，进行第二导电类型重掺杂注入并进行退火在所述漂移区的底部表面形成有由第二导电类重掺杂区组成的集电区。云南定制Mitsubishi三菱IGBT模块报价