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电解抛光腐蚀，电源前面板“工作”：当电压、电流、时间都调试设定完毕后，将“功能选择”开关旋至“工作”位置，按下“启动”按钮，时间控制器（设定方法付后）开始计时，输出电流/电压；在“设定电压”工作状态时，如工作电压在工作过程中发生变化，达不到设定值，请将电流调到比较大；在“设定电流”工作状态时，如工作电流在工作过程中发生变化，达不到设定值，请将电压调到比较大；待设定时间结束后，自动切断负载，蜂鸣器告知，此时后面板的交流插座也被切断。按时间控制器上的黄色“RESET”按钮，为下一次时间控制作好准备。晶间腐蚀，有漏电和短路保护。昆山金属抛光腐蚀按钮操作

晶间腐蚀检验方法：晶间腐蚀后有通常有两种方法检测，一种是弯曲法，也就是对折法，就是试样进行晶间腐蚀检验后在弯曲试验机上进行弯曲180°，用放大镜观察弯曲表面，根据表面是够有裂纹来判断是否有晶间腐蚀发生，另一种是金相法，根据晶间腐蚀后试样进行磨抛+化学腐蚀，通过金相显微镜观察腐蚀深度，通过晶间腐蚀深度来判断是否发生晶间腐蚀；其实还有第三种办法，就是有经验的师傅还可以通过听声法来判断，这个主观影响较大，不建议使用；金相试样横向和纵向都是允许的，因为是判断试样腐蚀的深度，所以横向还是纵向影响不大的。昆山金属抛光腐蚀按钮操作低倍加热腐蚀紧凑的酸蚀槽，完全可与抽风柜配合使用，增加工作环境的舒适性。

晶间腐蚀，GB/T3246.1-2002 铝及铝合金加工制品显微组织检验方法，GB/T3246.2-2002 铝及铝合金加工制品低倍组织检验方法，GB/T7998-87 铝合金晶间腐蚀测定法， GB/T7998-2005 铝合金晶间腐蚀测定法生产中主要是过烧检验，特征为：复熔球、晶界三角、晶界加宽。晶粒度也是很重要的检验项目，经覆膜处理后在偏光下观察。请查阅GB/T3246-2000 由国家标准的。可以用NaOH溶液80~100g/L,室温下浸蚀3~30分钟。可以看到组织缺陷。软合金制品及铸轧板带浸蚀检测晶粒度：42%的HF5ml37%的HC175ml65%~68%的HNO3 25ml适当时间立即用水清洗。反复多次至晶粒清楚为止。

晶间腐蚀，国内外相关标准：GB/T4334.(1~5)-2000不锈钢晶间腐蚀敏感性试验方法标准(根据不同材料敏感性选择相应标准)GB/T15260-1994《镍合金晶间腐蚀敏感性试验方法标准》GB/T21433-2008《不锈钢压力容器晶间腐蚀敏感性检验》CB/T3949-2001《船用不锈钢焊接接头晶间腐蚀试验方法》ASTMG28-02(2008)StandardTestMethodsforDetectingSusceptibilitytoIntergranularCorrosioninWrought,NickelRich,ChromiumBearingAlloys(中文名称:《锻造高镍铬轴承合金晶间腐蚀敏感性的检查用标准试验方法》GB/T7998-2005《铝合金晶间腐蚀测定方法》HG/T3173-2002《尿素级很低碳铬镍钥奥氏体不锈钢晶间腐蚀倾向试验》电解抛光腐蚀，实现恒定电流和恒定电压工作方式。

电解抛光腐蚀原理，关于电解抛光原理的争论很多，被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过程是:电解抛光时，靠近试样阳极表面的电解液，在试样上随着表面的凸凹不平形成了一层薄厚不均匀的黏性薄膜，这种薄膜在工件的凸起处较薄，凹处较厚，此薄膜具有很高的电阻，因凸起处薄膜薄而电阻小，电流密度高而溶解快;凹处薄膜厚而电阻大，电流密度低而溶解慢，由于溶解速度的不同，凹凸不断变化，粗糙表面逐渐被平整，然后形成光亮平滑的抛光面。电解抛光过程的关键是形成稳定的薄膜，而薄膜的稳定与抛光材料的性质、电解液的种类、抛光时的电压大小和电流密度都密切相关。根据实验得出的电压和电流的关系曲线称为电解抛光特性曲线，根据它可以决定合适的电解抛光规范。电解抛光腐蚀，可控制样品的抛光/腐蚀面积（样品罩开孔直径15mm，20mm，30mm）。昆山金属抛光腐蚀按钮操作

电解抛光腐蚀，电流、电压精度高，精确到小数点后两位。昆山金属抛光腐蚀按钮操作

晶间腐蚀仪器应用于不锈钢的晶间腐蚀的设备，用于检验各种类型的不锈钢、铝合金等材料在特定的温度和腐蚀试剂下晶间腐蚀的状况，从而判定材料的化学成分、热处理和加工工艺是否合理，是金属局部腐蚀的一种，沿着金属晶粒间的分界面向内部扩展的腐蚀，晶间腐蚀会破坏晶粒间的结合，大幅降低金属的机械强度。腐蚀发生后，金属和合金的表面虽然仍保持一定的金属光泽，看不出被破坏的迹象，但晶粒间结合力逐渐减弱，力学性能恶化。由此可见，晶间腐蚀是一种很危险的腐蚀。本仪器是用于评价材料的晶间腐蚀性能的仪器。昆山金属抛光腐蚀按钮操作

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