电解抛光腐蚀,该电源是高稳定度的稳压稳流自动转换的高精度稳压电源。输出电压能够从零到标称值内任意选择, 而且在稳压状态时限流保护点也可任意设定。在稳流状态时,稳流输出电流在额定范围内连续可调。输出电压、输出电流指示为3位半LED数码显示。电源是由整流及滤波电路,辅助电源及基准电压电路,电压电流取样检测电路,比较放大电路,单片机控制电路以及调整电路等组成。当输出电压由于电源电压或负载电流变化引起变动时,则变动的信号经电压取样电路与基准电压相比较,其所得误差信号经比较放大后,由单片机控制系统控制调整电路使输出电压高速调整为给定值。从而达到高稳定输出的目的。电解抛光腐蚀,连接RS485通讯连接方式任选与计算机通讯。无锡晶间腐蚀经济实用
电解抛光腐蚀,显示钢的显微组织的电解浸蚀剂及电解抛光液表
浸蚀剂名称及成分 |
使用方法 |
适用范围 |
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过硫酸铵溶液: (NH4)2S2O610克 过硫酸铵水90亳升 |
电解浸蚀。方法同铬酸水溶液的使用方法。 |
极快的显示不锈钢组织 |
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过氯酸及冰醋酸溶液: 冰醋酸 10份 过氯酸 1份 |
2分钟或以上,电压20~22伏,电流密度0.1安/厘米2,使用温度低于20。C。抛光时要时常搅溶液,在通风橱中进行,要注意温度,防止炸裂。配制溶液时,过氯酸须缓慢地加入冰醋酸中,温度低于15。C,要?搅动,以免局部温度升高。 |
适用于抛光钢和铁。 |
晶间腐蚀是什么?以晶间腐蚀为起源,在应力和介质的共同作用下,可使不锈钢、铝合金等诱发晶间应力腐蚀,所以晶间腐蚀有时是应力腐蚀的先导,在通常腐蚀条件下,钝化合金组织中的晶界活性不大,但当它具有晶间腐蚀的敏感性时,晶间活性很大,即晶格粒与晶界之间存在着一定的电位差,这主要是合金在受热不当时,组织发生改变而引起的。所以晶间腐蚀是一种由组织电化学不均匀性引起的局部腐蚀蚀。此外晶界存在杂质时,在一定介质也也会引起晶间腐蚀。
晶间腐蚀操作主意事项,管道:进出水管一定要连接好,如果使用冷水机根据水管上的标识来连接,冷水机端锁紧好喉箍,如果连接反了会出现故障或容易让冷凝器上的水管脱落。乳胶管连接,乳胶管是连接与冷凝器的进水和出水端,下端为进水上端为排水,这样冷凝效果比较好。初次连接的时候可以将管的端部沾一点水,这样容易连接到宝塔接头上,一定要连接到宝塔接头底部这样在使用过程中不容易脱落(因为接头的外径大于管的内径如果没有沾水很难套上)。乳胶管应留长一些,一是方便上下移动冷凝管,短了不方便操作烧瓶的安装与拆卸,二是乳胶管在使用的时候头部容易老化,所以在使用的时候一定要注意,发现有问题可以剪掉老化的部分(特别是使用冷水机,冷水机温度不能设置得太低,后面会说明),乳胶管应避免搭在加热器上方,这样同样会加快乳胶管老化,多于的可以搭在十字夹或者冷凝管夹上往后。晶间腐蚀,温度可选择控制溶液温度,更精确。
电解抛光腐蚀,电解浸蚀参考资料
试验材料 |
浸蚀液配比 |
电解参数 |
时间 |
阴极材料 |
备注 |
铝和铝合金 |
蒸馏水 90ml磷酸(1.71) 10ml |
1~8V |
5~10秒 |
不锈钢 |
纯铝,铝一铜,铝一?铝一?硅合金 |
铜 |
正磷酸/蒸馏水=2:1 |
0.8V 24。C |
30秒 |
铜 |
除锡青铜外的合金 |
黄铜 |
正磷酸/水=3:5 |
0.01A/cm2 16~27。C |
几秒 |
铜 |
α黄铜,β黄铜 |
黄铜 |
正磷酸/水=4:6 |
0.08~0.012A/cm2 24。C |
几秒 |
铜 |
α黄铜 |
黄铜 |
正磷酸/硫酸(浓)/蒸馏水=67:10:23 |
0.8V 24。C |
30秒 |
铜 |
含Sn≤6%的青铜 |
青铜 |
正磷酸/硫酸(浓)/蒸馏水=47:20:33 |
0.8V 24。C |
30秒 |
铜 |
含Sn≤6%的青铜 |
晶间腐蚀,应用于不锈钢的晶间腐蚀的设备。无锡晶间腐蚀经济实用
电解抛光腐蚀,贵金属及其合金电解浸蚀剂和电解抛光液表
浸蚀剂名称及成分 |
使用方法 |
适用范围 |
氯化钾过饱和 过溶液 400亳升 盐酸 几滴 |
直流电电流密度0.07~0.09安/厘米2 阳极:不锈钢 电解+机械联合抛光法, 时间2~3分钟 |
纯金的电解抛光和电解浸蚀。 |
硫脲 8~10克 硫酸 12亳升 乙酸 40亳升 |
直流电: 10~15伏 温度: 常温 时间: 10~60秒 |
金基合金的电解浸蚀。
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硫代硫酸钠 20克 水 400亳升 |
直流电:0.8~1安/厘米2 阳极:不锈钢 电解+机械抛光法,时间0.5~1.5分钟 |
银及其合金的电解抛光。调节电流密度可用于银基合金的电解浸蚀 |