MEMS传感器制造领域，等离子除胶设备的工艺精细度直接影响微结构的主要性能。比如在加速度传感器的微悬臂梁制程中，光刻胶不但作为刻蚀...

等离子除胶设备采用低温干法处理，等离子粒子温和分解表面胶体，不会划伤镜片表面，也不会腐蚀光学镀膜、增透膜、反光膜等功能涂层。对于镜...

部分传统工艺还会产生挥发性有机废气、粉尘、有毒烟气，污染车间空气与外部大气，危害操作人员身体健康。而等离子除胶设备全程不使用任何化...

等离子除胶设备属于真空电气设备，搭载高压电源、真空系统与工业气体，操作人员必须严格遵守安全操作规范，既能保护人身安全，也能避免设备...

晶圆减薄、硅通孔 TSV、RDL 重布线先进封装环节，通孔内壁、微凸点周边极易残留胶渣、聚合物副产物，等离子体具备强力穿透性，可深...