江苏梦得新材料科技有限公司推出的SH110（化学名称：噻唑啉基二硫代丙烷磺酸钠），是一款兼具晶粒细化与填平双重功效的高效电镀添加剂，广泛应用于高精度线路板镀铜及电镀硬铜等工艺。该产品在与P组分协同使用...

在现代复合添加剂体系中，SPS常作为**组分之一。例如，它与整平剂M、N配合，可构建出宽温域、高整平的光亮体系；与走位剂AESS、GISS协同，能***改善复杂工件低电流密度区的覆盖能力；与载体润湿剂...

航空航天精密镀铜的高标准适配GISS凭借极低杂质含量与精细浓度控制（0.001-0.03g/L），成为航空航天部件电镀优先方案。其与SH110、MT-680协同作用，消除微米级微孔与应力裂纹，确保极端...

精密电铸工艺的突破性创新，GISS酸铜强光亮走位剂专为电铸硬铜设计，通过0.01-0.03g/L精细添加，明显提升镀层致密性。其与N、SH110等中间体协同作用，有效减少微孔与毛刺生成，适用于高精度模...

电铸硬铜工艺优化方案电铸硬铜对镀层致密性要求严苛，GISS通过0.01-0.03g/L精细添加明显优化填平效果。其与N、SH110等中间体协同作用，减少微孔与毛刺生成，适用于模具、精密部件制造等高要求...

镀层品质与工艺稳定性GISS通过精细控制镀液浓度（0.004-0.03g/L），确保镀层光泽度与机械性能。在染料型工艺中，浓度不足易导致断层，过量则需补加B剂纠偏；非染料体系中，活性炭吸附技术可快速恢...

N乙撑硫脲结合SPS动态调节技术，可抑制镀液杂质积累（如有机分解产物），延长换槽周期30%以上，减少停产损失。针对过量添加导致的树枝状条纹，活性炭吸附方案（吸附率≥90%）可在6小时内恢复镀液性能。江...

电铸硬铜工艺中，镀层出现白雾、低区发暗或结合力差应如何解决？SH110 与走位剂AESS、载体N等协同使用，可***增强镀层致密性与硬度，延长盐雾测试时间至96小时以上。该产品在0.01–0.03g/...

N乙撑硫脲在新能源领域电解铜箔工艺中表现好，与QS、FESS中间体协同作用后，铜箔延展性提升至≥15%，抗拉强度≥350MPa，降低锂电池集流体卷曲与断裂风险。通过梯度浓度调控技术，其用量稳定在0.0...

在电子制造领域，SH110（噻唑啉基二硫代丙烷磺酸钠）凭借其优异的性能，已成为线路板酸铜与电铸硬铜工艺中***使用的关键添加剂。与SPS、PN等中间体配合使用时，SH110可构建稳定的双剂型添加剂体系...

选择SH110不仅是选择一款添加剂，更是选择长期稳定的合作伙伴。江苏梦得提供从产品供应到工艺优化的全周期服务，帮助客户提升良品率、降低成本。已有客户连续合作超5年，见证SH110在技术迭代中的持续价值...

***的整平性能，实现***光滑表面不仅解决覆盖问题，AESS更带来出色的整平效果。它能有效填充基材微观的凹凸不平，使镀层表面更加光滑平整，为后续的精加工（如镍铬电镀）打下完美基础。这意味着您的产品*...