电磁透镜：热发射电子需要电磁透镜来成束，所以在用热发射电子长筒械具的扫描电镜上，电磁透镜必不可少。通常会装配两组：汇聚透镜和物镜，汇聚透镜但但用于汇聚电子束，与成象会焦无关;物镜负责将电子束的焦点汇聚到样品表面。扫描线圈的作用是使电子束偏转，并在样品表面作有规则的扫动，电子束在样品上的扫描动作和显像管上的扫描动作保持严格同步，因为它们是由同一扫描发生器控制的。样品室内除放置样品外，还安置信号探测器。信号探测处理和显示系统：电子经过一系列电磁透镜成束后，打到样品上与样品相互作用，会产生二次电子、背散射电子、俄歇电子以及X射线等一系列信号。所以需要不同的探测器譬如二次电子探测器、X射线能谱分析仪等来区分这些信号以获得所需要的信息。虽然X射线信号不能用于成象，但习惯上，仍然将X射线分析系统划分到成象系统中。扫描电镜成像直观、立体感强。铜仁赛默飞扫描电镜
扫描电镜特点：扫描电镜虽然是显微镜家族中的后起之秀,但由于其本身具有许多独特的优点,发展速度是很快的。仪器分辨率较高,通过二次电子像能够观察试样表面6nm左右的细节,采用LaB6电子长筒械具,可以进一步提高到3nm。仪器放大倍数变化范围大,且能连续可调。因此可以根据需要选择大小不同的视场进行观察,同时在高放大倍数下也可获得一般透射电镜较难达到的高亮度的清晰图像。观察样品的景深大,视场大,图像富有立体感,可直接观察起伏较大的粗糙表面和试样凹凸不平的金属断口象等,使人具有亲临微观世界现场之感。铜仁赛默飞扫描电镜扫描电镜可同时获得形貌、结构、成分和结晶学信息。
扫描电镜应用范围：直接观察大试样的原始表面。它能够直接观察直径100mm,高50mm,或更大尺寸的试样,对试样的形状没有任何限制,粗糙的表面也能观察,这便免除了制备样品的麻烦,而且能真实观察试样本身物质成分不同的衬度(背反射电子象)。观察厚试样。其在观察厚试样时,能得到高的分辨率和较真实的形貌。扫描电子显微的分辨率介于光学显微镜和透射扫描电镜之间。但在对厚块试样的观察进行比较时,因为在透射扫描电镜中还要采用复膜方法,而复膜的分辨率通常只能达到10nm,且观察的不是试样本身,因此,用扫描电镜观察厚块试样更有利,更能得到真实的试样表面资料。
扫描电镜：衍射衬度：衍射衬度是来源于晶体试样各部分满足布拉格反射条件不同和结构振幅的差异。例如电压一定时，入射束强度是一定的，假为L，衍射束强度为ID。在忽略吸收的情况下，透射束为L-ID。这样如果只让透射束通过物镜光阑成像，那么就会由于样品中各晶面或强衍射或弱衍射或不衍射，导致透射束相应强度的变化，从而在荧光屏上形成衬度。形成衬度的过程中，起决定作用的是晶体对电子束的衍射。SEM制样对样品的厚度没有特殊要求，可以采用切、磨、抛光或解理等方法将特定剖面呈现出来，从而转化为可以观察的表面。这样的表面如果直接观察，看到的只有表面加工损伤，一般要利用不同的化学溶液进行择优腐蚀，才能产生有利于观察的衬度。不过腐蚀会使样品失去原结构的部分真实情况，同时引入部分人为的干扰，对样品中厚度极小的薄层来说，造成的误差更大。扫描电镜与电视一样是由控制电子束偏转的电子系统来完成的。
扫描电镜基本知识：在材料领域中，扫描电镜技术发挥着极其重要的作用，被普遍应用于各种材料的形态结构、界面状况、损伤机制及材料性能预测等方面的研究。利用扫描电镜可以直接研究晶体缺陷及其产生过程，可以观察金属材料内部原子的集结方式和它们的真实边界，也可以观察在不同条件下边界移动的方式，还可以检查晶体在表面机械加工中引起的损伤和辐射损伤等。扫描电镜可粗略分为镜体和电源电路系统两部分。镜体部分由电子光学系统、信号收集和显示系统以及真空抽气系统组成。扫描电镜普遍应用于工程地质领域的研究。铜仁赛默飞扫描电镜
扫描电镜对信息收集、放大、再成像以达到对物质微观形貌表征的目的。铜仁赛默飞扫描电镜
扫描电镜基本原理：扫描电镜的工作是进入微观世界的工作。我们平常所说的微乎其微或微不足道的东西,在微观世界中,这个微也就不称其微,我们提出用纳米作为显微技术中的常用度量单位,即1nm=10-6mm。扫描电镜成像过程与电视成像过程有很多相似之处,而与透射电镜的成像原理完全不同。透射电镜是利用成像电磁透镜一次成像,而扫描电镜的成像则不需要成象透镜,其图象是按一定时间、空间顺序逐点形成并在镜体外显像管上显示。二次电子成象是使用扫描电镜所获得的各种图象中应用较普遍,分辨本领较高的一种图象。我们以二次电子成象为例来说明扫描电镜成象的原理。铜仁赛默飞扫描电镜
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