北京CPS高精度纳米粒度分析仪价格

CPS纳米粒度仪测量金刚石的粒径：金刚石微粉是指颗粒度细于36/54微米的金刚石颗粒，金刚石微粉硬度高、耐磨性好。大量用于机械、航天、光学仪器、玻璃、陶瓷、电子、石油、地质、工业部门，用于制作PCD(聚晶金刚石)、 PDC(金刚石复合片)、陶瓷结合剂、金属结合剂、电镀产品；制作拉丝模、电镀磨具，陶瓷、金属结合剂磨具等；制造金刚石树脂结合剂弹性磨块等；用于精密机械、光学玻璃、精细陶瓷、宝石及半导体等产品的研磨抛光。CPS纳米粒度分析仪测量金刚石微粉的粒径。驰光机电是多层次的团体与管理模式。北京CPS高精度纳米粒度分析仪价格

氧化锌可以应用于病毒载体制剂，并且病毒颗粒大小和病毒聚集对基于病毒的生物制品的下游加工、配方和混合有着巨大的影响此款设备在有关工艺优化和产品质量等重要问题上有重要的参考价值。CPS纳米粒度分析仪可以直观准确的表征病毒颗粒的团聚情况。CPS纳米粒度分析仪测定不同处理方式下病毒颗粒的团聚情况的结果，仪器使用转速为24,000转/分。可以明显看到病毒颗粒是否发生团聚现象，仪器分辨率很好。CPS利用差速离心沉降法的原理表征不同处理方式下病毒颗粒的沉降时间，以及病毒颗粒的团聚情况。北京CPS高精度纳米粒度分析仪价格驰光机电科技过硬的产品质量、完善的售后服务、认真严格的企业管理，赢得客户的信誉。

高灵敏度：即使只有1微克样品，CPS也能得到一个准确的粒度分布结果。快速、高精度数模(A/D)转换：可用信号分辨率(即软件操作的数据对象)决定于数模转换(A/D)过程。CPS系统使用的数模转换可以实现在每秒31次取样时保持20位以上的精度，即百万分之一的误差。快速检测头响应：CPS系统的检测头和电路设计允许在95%精度下0.1秒的响应速度，而同类产品的响应时间为1-4秒。这一出众的快速移动峰值检测能力较大地扩展了测量的动态范围，比同类型产品提供高出4倍多的分析速度。

CPS纳米粒度分析仪测量金刚石微粉的粒径，可提供更精确更稳定的测量结果，有效控制产品的质量。应用实例：光催化活性高，高度耐酸碱耐腐蚀。二氧化钛粒度分布分析，稳定性二氧化钛，二氧化钛常被用作颜料、防晒霜和增稠剂。因此它有着大量的应用，从油漆到食用色素到化妆品和护肤品，因此二氧化钛的粒径测量十分重要。例如纳米二氧化钛颗粒可以用于防晒乳液，因为它们散射的可见光比用于普通涂料或者颜料中的二氧化钛颗粒小，同时还能提供紫外线保护。驰光机电不断从事技术革新，改进生产工艺，提高技术水平。

激光检测器同时检测颗粒对光的散射程度，根据米氏散射理论，得出不同尺寸颗粒的相对含量，从而得到颗粒粒径的分布曲线。主要参数：测量范围：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋转速度：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，标准分析圆盘：CR-39聚合物（耐有机溶剂和水溶液），可选 配：低密度样品分析扩展、变速圆盘；自动密度梯度液生成器（型号AG300）；自动进样器（型号AS200）；标定用标准颗粒。半导体CMP用抛光垫、清洗液、修整盘、抛光液、纳米研磨粒子以及OLED显示光敏聚酰亚胺、封装墨水、低温光阻材料等20余款“卡脖子”材料。驰光机电拥有先进的产品生产设备，雄厚的技术力量。北京CPS高精度纳米粒度分析仪价格

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而CMP工艺离不开研磨料的发展，那么对于磨料的颗粒粒度表征就显得尤为重要了。CMP就是用化学腐蚀和机械力对加工过程中的硅晶圆或其它衬底材料进行平滑处理。将硅片固定在抛光头的较下面，将抛光垫放置在研磨盘上，抛光时，旋转的抛光头以一定的压力压在旋转的抛光垫上，由亚微米或纳米磨粒和化学溶液组成的研磨液在硅片表面和抛光垫之间流动，然后研磨液在抛光垫的传输和离心力的作用下，均匀分布其上，在硅片和抛光垫之间形成一层研磨液液体薄膜。北京CPS高精度纳米粒度分析仪价格