仪器的主要参数为:测量范围:0.005-75μm,光源:405nmLED,旋转速度可选:12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM,标准分析圆盘:CR-39聚合物(耐有机溶剂和水溶液),可选配:低密度样品分析扩展、变速圆盘;自动密度梯度液生成器(型号AG300);自动进样器(型号AS200);标定用标准颗粒。激光粒度仪根据光学衍射和散射的原理,从激光器发出的激光束经显微物镜聚集,滤波和准直后,变成直径约10mm的平行光束,该光束照射到待测的颗粒上,就发生了散射,散射光经傅立叶透镜后,照射到光电探测器上的任一点都对应于某一确定的散射角。诚信是企业生存和发展的根本。广东CPS高精度纳米粒度分析仪
CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展,电子器件尺寸缩小,要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分,其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm,其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸,因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用!欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题!广东CPS高精度纳米粒度分析仪驰光机电科技有限公司生产的产品受到用户的一致称赞。
升降台式样品池送进定位及环境光遮蔽系统,使光子相关谱探测系统不只体积小,而且具有很强的抗干扰能力。高精度的测试温度控制系统:单独的循环温控槽可在2-95℃范围内任意设定,其控制精度达0.1℃。微量样品池/标准样品池:可以使用3.5ML的标准样品池外,还有适应于稀有贵重样品的0.3ML微样池。环境温度:在5-35℃的环境中,本仪器都能正常使用。纳米粒度仪样品池恒温箱及恒温DI水供应系统:有利于提高测试温度控制精度同时减少等待样品池热平衡的时间,提高仪器的实际测试精度和工作效率。
CPS分析仪基本原理:CPS纳米粒度分析仪依据Stokes定律,V=D²(ρP-ρF)G/18η,即颗粒沉降的速度与颗粒的尺寸平方成正比来进行粒度的测量。待测样品从圆盘中心进入高速旋转的圆盘,在离心力的作用下发生沉降,沉降的速度遵循Stokes公式,在距离圆盘的边缘固定位置设有激光检测器,颗粒按尺寸大小依次通过探测器,仪器记录颗粒通过探测器的时间,由于所有颗粒走过的路程都一样,因此,颗粒运动所需的时间与颗粒本身尺寸的平方成反比,激光检测器同时检测颗粒对光的散射程度。诚挚的欢迎业界新朋老友走进驰光机电科技!
CPS利用差速离心沉降法的原理表征不同处理方式下病毒颗粒的沉降时间,以及病毒颗粒的团聚情况,峰值清晰可见,为疫苗的研发生产提供全新的解决方案。应用范围:CPS纳米粒度分析仪可测量粒度分布在5nm-75微米之间的超细粉,大量应用于以下领域。化工:聚合物乳胶和乳液,助剂及添加剂(纳米碳酸钙CaCO,重晶石3CaSO),白炭黑SiO2,金刚石、磨料、陶瓷、碳化硅、氮化硅等,抗冲击增强颗粒。制药/生物:纳米金和纳米银,病毒和类病毒颗粒,细胞和细胞碎片,蛋白质,脂质体。驰光机电倾城服务,确保产品质量无后顾之忧。广东CPS高精度纳米粒度分析仪
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印刷和涂料,涂料:水基和油基涂料,微纤维涂料粘度改性剂,打印机/复印件墨粉,喷墨打印机墨水,炭黑,磁性材料。半导体:微磨料,CMP化学机械抛光。其他:纳米微球,淀粉/面粉颗粒,颗粒团聚模式分析,标准颗粒。CPS纳米粒度分析仪的操作软件集数据于一体,主要包括以下特性:后台数据采集,允许测量时浏览数据;重量,表面积,数量和吸收分布图;可以在同一张图表上显示20个不同的分布结果;可定制的分布统计输出结果;完整的粒度分布统计。广东CPS高精度纳米粒度分析仪
山东驰光机电科技有限公司正式组建于2019-08-22,将通过提供以分析仪,在线监测,在线分析,流量计等服务于于一体的组合服务。业务涵盖了分析仪,在线监测,在线分析,流量计等诸多领域,尤其分析仪,在线监测,在线分析,流量计中具有强劲优势,完成了一大批具特色和时代特征的仪器仪表项目;同时在设计原创、科技创新、标准规范等方面推动行业发展。随着我们的业务不断扩展,从分析仪,在线监测,在线分析,流量计等到众多其他领域,已经逐步成长为一个独特,且具有活力与创新的企业。驰光科技供应始终保持在仪器仪表领域优先的前提下,不断优化业务结构。在分析仪,在线监测,在线分析,流量计等领域承揽了一大批高精尖项目,积极为更多仪器仪表企业提供服务。