海南二氧化钛粒度分析仪报价

CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展，电子器件尺寸缩小，要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分，其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm，其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸，因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用！欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题！驰光机电科技倾城服务，确保质量无后顾之忧。海南二氧化钛粒度分析仪报价

对于粒径分布范围很宽的样品，通过可选的速度调节功能圆盘，只需常规圆盘分析时间的1/20。经过CPS纳米粒度仪对裂解后炭黑进行粒径测试后的结果所示：与扫描电镜所显示的结果基本一致，裂解后的炭黑较小粒径为3um，较大可至50多微米，并且出现很多峰值，证明样液中具有不同粒径且含量不同的的炭黑。峰值粒径处于30um左右。真实反映了不同炭黑粒径的分布状态。随着半导体工业飞速发展，电子器件尺寸缩小，要求晶片表面平整度达到纳米级。作为芯片制造不可或缺的一环，CMP工艺在设备和材料领域历来是受欢迎的。海南二氧化钛粒度分析仪报价驰光机电以质量求生存，以信誉求发展！

C-Quand在线EDXRF分析仪在PTA工艺中的应用，产品综述：精对苯二甲酸，英文名简称为PTA，它是聚酯生产链的重要组成部分，是中国重要的化工原料。PTA可用于生产聚酯，合成纤维和增塑剂等，它们大量用于工业塑料，薄膜，涂料和其他领域。作为纺织化纤和石油化工两大行业的重要中间体，PTA起着重要的承上启下作用。测量的必要性：通过添加醋酸钴和醋酸锰以及四溴乙烷催化剂，对二甲苯氧化可以制取苯二甲酸（TA）。如果能够对催化剂元素含量（钴、锰和溴Br）进行连续在线分析，可以更好地控制工艺

应用实例：测量高纯氧化铝粉。一般来说，含量大于99%的氧化铝称为高纯氧化铝，其特性有耐化学腐蚀、耐高温(正常使用在1600℃，短期1800℃)、耐骤冷骤热、密度高等。99.995%高纯氧化铝粉主要用于LED人造蓝宝石晶体、高级陶瓷、PDP荧光粉及其他高性能材料；99.99%高纯氧化铝粉用于高压钠灯、新型发光材料、特殊陶瓷、高级涂层、三基色、催化剂及其他高性能材料。粒度是高纯氧化铝粉产品的重要指标，CPS纳米粒度分析仪能给您带来确切稳定的测量结果。使用CPS分析仪平行测定3次高纯氧化铝粉得到的叠加图。驰光机电愿和各界朋友真诚合作一同开拓。

一般离心式分析仪的动态范围为40，但是CPS系统的动态范围可以超过1000。过去很多需要消耗整夜时间而且低精度的测量，现在可以使用示差沉降法快速测量，而得到高精度的结果。低噪声光源/检测头：CPS纳米粒度分析仪的光学系统和电路经过精心设计以降低信号中的噪声，信噪比通常为50000左右，低噪声使得系统具有很高的灵敏度，可检测窄峰的重量通常小于0.01微克，这使得对于微克样品的常规高精度分析变得可行。CPS系统以合理的价格提供高精度、高动态范围和高灵敏度的粒度分析解决方案。驰光机电科技有限公司与广大客户携手共创碧水蓝天。海南二氧化钛粒度分析仪报价

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光电探测器阵列由一系列同心环带组成，每个环带是一个单独的探测器，能将投射到上面的散射光线形地转换成电压，然后送给数据采集卡，该卡将电信号放大，再进行AID转化后送入计算机。激光粒度仪依据全量程米氏散射理论，充分考虑到被测颗粒和分散介质的折射率等光学性质，根据激光照射在颗粒上产生的散射光能量反演出颗粒群的粒度大小和粒度分布规律。激光粒度仪注意事项：本仪器适用于＜1mm粒度测定，＞1mm的应过筛测定；必须先开计算机电源，工作正常后，再开仪器电源，顺序不能反了，否则信号送不到计算机。海南二氧化钛粒度分析仪报价

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