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江西激光粒度粒形分析仪哪家好

来源: 发布时间:2023年11月18日

水泥的粒度分布如何将较大的影响混凝土的强度。粒度分布的测量对产品的质量控制,降低生产成本,提高产品质量,减少能耗方面均有较大的作用。对于水泥生产的实时控制,就需要粒度仪这样的监控仪器,保证数据的输出连续性,确保质量的可靠。纳米粒度仪采用动态光散射原理和光子相关光谱技术,根据颗粒在液体中的布朗运动的速度测定颗粒大小。小颗粒布朗运动速度快,大颗粒布朗运动速度慢,激光照射这些颗粒,不同大小的颗粒将使散射光发生快慢不同的涨落起伏。驰光机电科技和客户携手诚信合作,共创辉煌!江西激光粒度粒形分析仪哪家好

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仪器的主要参数为:测量范围:0.005-75μm,光源:405nmLED,旋转速度可选:12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM,标准分析圆盘:CR-39聚合物(耐有机溶剂和水溶液),可选配:低密度样品分析扩展、变速圆盘;自动密度梯度液生成器(型号AG300);自动进样器(型号AS200);标定用标准颗粒。激光粒度仪根据光学衍射和散射的原理,从激光器发出的激光束经显微物镜聚集,滤波和准直后,变成直径约10mm的平行光束,该光束照射到待测的颗粒上,就发生了散射,散射光经傅立叶透镜后,照射到光电探测器上的任一点都对应于某一确定的散射角。江西激光粒度粒形分析仪哪家好驰光机电科技诚信、尽责、坚韧。

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激光检测器同时检测颗粒对光的散射程度,根据米氏散射理论,得出不同尺寸颗粒的相对含量,从而得到颗粒粒径的分布曲线。主要参数:测量范围:0.005-75μm,光源:405nmLED,旋转速度:12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM,标准分析圆盘:CR-39聚合物(耐有机溶剂和水溶液),可选 配:低密度样品分析扩展、变速圆盘;自动密度梯度液生成器(型号AG300);自动进样器(型号AS200);标定用标准颗粒。半导体CMP用抛光垫、清洗液、修整盘、抛光液、纳米研磨粒子以及OLED显示光敏聚酰亚胺、封装墨水、低温光阻材料等20余款“卡脖子”材料。

能够允许用户为不同样品设置标准测量方法SOP,并且可以对SOP进行编辑和保存。EyeTech 是一个模块化的系统,可以选配10种不同的测量池。更换测量池简便快速,仪器便于分析各种颗粒,如液相、乳化液、干粉、纤维、磁粉、加热的液体和气溶胶等。这些测量池模块都是配合不同的分析方法而开发的,确保能够根据样品的特性来测量。纤维测量池:ACM-104L,气溶胶测量池ACM-106,微流量测量池ACM-108,载玻片测量池ACM-110,加热测量池ACM-111,自由落体测量池ACM-112。在每一次分析过程中,激光光束与颗粒之间发生了上百万次的交互作用。驰光机电凭借多年的经验,依托雄厚的科研实力。

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研磨液中的化学成分与硅片表面材料产生化学反应,将不溶的物质转化为易溶物质,或者将硬度高的物质进行软化,然后通过磨粒的微机械摩擦作用将这些化学反应物从硅片表面去除,溶入流动的液体中带走,即在化学去膜和机械去膜的交替过程中实现平坦化的目的。其反应分为两个过程:化学过程:研磨液中的化学品和硅片表面发生化学反应,生成比较容易去除的物质;物理过程:研磨液中的磨粒和硅片表面材料发生机械物理摩擦,去除化学反应生成的物质。驰光机电科技产品适用范围广,产品规格齐全,欢迎咨询。江西激光粒度粒形分析仪哪家好

我公司生产的产品、设备用途非常多。江西激光粒度粒形分析仪哪家好

CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展,电子器件尺寸缩小,要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分,其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm,其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸,因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用!欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题!江西激光粒度粒形分析仪哪家好