海南高精度纳米粒度分析仪价格

对于粒径分布范围很宽的样品，通过可选的速度调节功能圆盘，只需常规圆盘分析时间的1/20。经过CPS纳米粒度仪对裂解后炭黑进行粒径测试后的结果所示：与扫描电镜所显示的结果基本一致，裂解后的炭黑较小粒径为3um，较大可至50多微米，并且出现很多峰值，证明样液中具有不同粒径且含量不同的的炭黑。峰值粒径处于30um左右。真实反映了不同炭黑粒径的分布状态。随着半导体工业飞速发展，电子器件尺寸缩小，要求晶片表面平整度达到纳米级。作为芯片制造不可或缺的一环，CMP工艺在设备和材料领域历来是受欢迎的。驰光机电产品适用范围广，产品规格齐全，欢迎咨询。海南高精度纳米粒度分析仪价格

磨料的粒度测量：以上我们了解到磨料在CMP工艺中起到了关键性的作用，CMP磨料颗粒的典型尺寸范围是50-250纳米，典型的过大聚集体为1-10微米，并出现在ppm范围内。颗粒表征的挑战来自于精确确定纳米级颗粒尺寸，同时还识别出相对较少的微米级聚集体。CPS纳米粒度分析仪表征磨料颗粒粒度的有力工具。它可以分析任何粒度分布介于0.005和75微米的颗粒，提供比其他粒度分析方法好2到10倍的分辨率。较小峰值宽度可小至峰值直径的2%，粒径差别在大于3%的窄峰可以被完全分辨出来。海南高精度纳米粒度分析仪价格驰光机电获得市场的一致认可。

为了实现较佳过程控制，样品测量时间为5分钟左右。催化剂浓度通常在40至1000ppm范围内。C-Quand在线XRF分析仪是一款真正的过程分析仪，专为化工厂的恶劣环境而设计。分析仪配置和操作简单。它配有模拟和串行数据传输协议。C-Quand在线 XRF分析仪可以连续测量多达四个流路，每个流都有自己的校准曲线。此外，C-Quand在线XRF分析仪有各种方法来检查和确保可靠的数据。每小时分析一次内置的固体参考。有了这个内置的自动参考，您将能够在一年内实现无漂移过程测量。

被测物料不溶于水，就用自来水作为试剂，以节约成本；被测物料在水中悬浮，可用乙醇将粉末湿润后放入样品槽；超声分散的时间为15-60秒，测试结果一直稳定，不可再变化，说明样粉已被充分分散。有些试样由于强度低，超声分散太长，有可能产生粉碎，使测试结果越来越细。有些试样不易分散，也可加长分散时间。激光粒度仪的相关知识点就先说到这里了，这款产品还有很多的常识等着各位来发现与了解，如果您还想要了解更多内容，还请先关注好我们，华致林小编会不定期在此跟大家分享更多的信息。驰光机电从国内外引进了一大批先进的设备，实现了工程设备的现代化。

技术优势：CPS系统优良性能的基础是它先进的示差沉降技术。高转速：CPS可以支持的较高转速为24,000转/分。对于超细颗粒，其分析速度比其它产品快倍。使用速度调节技术，可以对粒度分布范围较广的样品进行分析。对于在其它分析仪上很多非常耗时(数小时或更长)的样品，CPS可以快速得到结果。高精度标定：CPS系统使用已知的标定颗粒进行标定，与美国国家标准和技术研究院(NIST)相兼容的标准保证了分析结果的一致性和精确度。使用内标法，也即把已知标定颗粒与待分析样品相混合，所得的峰值结果可以达到±0.25%的精度。我们愿与您共同努力，共担风雨，合作共赢。海南高精度纳米粒度分析仪价格

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研磨液中的化学成分与硅片表面材料产生化学反应，将不溶的物质转化为易溶物质，或者将硬度高的物质进行软化，然后通过磨粒的微机械摩擦作用将这些化学反应物从硅片表面去除，溶入流动的液体中带走，即在化学去膜和机械去膜的交替过程中实现平坦化的目的。其反应分为两个过程：化学过程：研磨液中的化学品和硅片表面发生化学反应，生成比较容易去除的物质；物理过程：研磨液中的磨粒和硅片表面材料发生机械物理摩擦，去除化学反应生成的物质。海南高精度纳米粒度分析仪价格