图5为根据本公开内容的第二实施方案的oled的示意性截面图。如图5所示，oledd2包括电极220、第二电极230、在电极220与第二电极230之间的有机发光层290。有机发光层290包括发光部分250，其包括eml240；第二发光部分270，其包括第二eml260；和在发光部分250与第二发光部分270之间的电荷生成层(cgl)280。电极220为用于注入空穴的阳极并且包含高的功函数的导电材料例如ito或izo。第二电极230为用于注入电子的阴极并且包含低的功函数的导电材料例如al、mg或al-mg合金。cgl280被定位在发光部分250与第二发光部分270之间。即，发光部分250、cgl280和第二发光部分270顺序堆叠在电极220上。换言之，发光部分250被定位在电极220与cgl280之间，以及第二发光部分270被定位在第二电极230与cgl280之间。发光部分250可以包括顺序堆叠在电极220上的hil252、htl254、eml240和etl256。即，hil252和htl254被定位在电极220与eml240之间。hil252被定位在电极220与htl254之间，以及htl254被定位在hil252与eml240之间。此外，etl256被定位在eml240与cgl280之间。eml240包含延迟荧光掺杂剂242和磷光掺杂剂244。延迟荧光掺杂剂242具有发射波长范围。强茂车规级二极管原装现货。武汉激光二极管企业
其中一pmos管、六pmos管、七pmos管和八pmos管的宽长比之比为1:1:2:4；六pmos管、七pmos管和八pmos管的栅极均连接一pmos管的栅极，其源极均连接电源电压，其漏极分别通过一开关、二开关和三开关后连接所述一电流镜单元的输出端。具体的，所述二电流镜单元包括九pmos管，九pmos管的栅极连接三pmos管的栅极，其源极连接电源电压，其漏极连接所述二电流镜单元的输出端。具体的，所述一运算放大器的输出端和一pmos管的栅极之间还设置有一电平位移电路，所述二运算放大器的输出端和三pmos管的栅极之间还设置有二电平位移电路。具体的，所述一运算放大器和二运算放大器均采用折叠式共源共栅运放结构，所述一运算放大器包括十pmos管、十一pmos管、十二pmos管、十三pmos管、十四pmos管、十五pmos管、十六pmos管、十七pmos管、十八pmos管、十九pmos管、一nmos管、二nmos管、三nmos管、四nmos管、五nmos管、六nmos管、七nmos管、八nmos管和四电阻，其中十八pmos管和十九pmos管作为所述一运算放大器的输入对管，其衬底均连接电源电压；六nmos管的栅极连接七nmos管和八nmos管的栅极以及五nmos管的栅极和漏极并连接基准电流，其源极连接八nmos管的漏极。武汉激光二极管企业广东强茂二极管代理商公司。
显示装置300包括：其中限定有红色像素rp、绿色像素gp和蓝色像素bp的基板310、面向基板310的第二基板370、在基板310与第二基板370之间的oledd2和在oledd2与第二基板370之间的滤色器层380。oledd2向滤色器层380提供白光。基板310和第二基板370各自可以为玻璃基板或塑料基板。例如，基板310和第二基板370各自可以为聚酰亚胺基板。在基板上形成有缓冲层320，以及在红色像素rp、绿色像素gp和蓝色像素bp中的每一者的缓冲层320上形成有薄膜晶体管(tft)tr。缓冲层320可以省略。在缓冲层320上形成有半导体层322。半导体层322可以包含氧化物半导体材料或多晶硅。当半导体层322包含氧化物半导体材料时，可以在半导体层322下方形成光屏蔽图案(未示出)。到半导体层322的光被光屏蔽图案屏蔽或阻挡，使得可以防止半导体层322的热降解。另一方面，当半导体层322包含多晶硅时，可以在半导体层322的两侧中掺杂杂质。在半导体层322上形成有栅极绝缘层324。栅极绝缘层324可以由无机绝缘材料例如硅氧化物或硅氮化物形成。在栅极绝缘层324上形成有由导电材料(例如金属)形成的栅极电极330以与半导体层322的中心相对应。在图6中，栅极绝缘层324形成在基板310的整个表面上。或者。
具体实施方式下面结合附图和具体实施例对本发明进行详细的描述。本发明提出一种基于负压调节的雪崩光电二极管偏压调节电路，包括像素外偏置电压产生模块和像素内偏压调节模块，如图1所示，像素外偏置电压产生模块包括一运算放大器op1、二运算放大器op2、一pmos管mp1、二pmos管mp2、三pmos管mp3、四pmos管mp4、一电阻r1、二电阻r2、一电流源i1和二电流源i2，一运算放大器op1的正相输入端连接基准电压vref，其反相输入端连接二pmos管mp2的源极和一电流源i1，其输出端连接一pmos管mp1的栅极；一pmos管mp1的源极连接电源电压，其漏极连接二pmos管mp2的栅极并通过一电阻r1后连接负电源电压vne；二运算放大器op2的正相输入端接地，其反相输入端连接四pmos管mp4的源极和二电流源i2，其输出端连接三pmos管mp3的栅极；三pmos管mp3的源极连接电源电压，其漏极连接四pmos管mp4的栅极并通过二电阻r2后连接负电源电压vne；二pmos管mp2和四pmos管mp4的漏极连接负电源电压vne。二pmos管mp2和四pmos管mp4用于产生一运算放大器op1和二运算放大器op2的反相输入端信号，一电流源i1和二电流源i2用于为二pmos管mp2和四pmos管mp4提供偏置电流。东莞乐山二极管代理商公司。
利用运放将四pmos管mp4的源极电压和二pmos管mp2的源极电压分别钳位至0v和步进电压，利用一pmos管mp1和三pmos管mp3产生像素内的偏置电流；在像素内利用电流镜单元镜像一pmos管mp1和三pmos管mp3产生的偏置电流，一电流镜单元通过数字开关控制像素内的比例电流镜镜像偏置电流的比例，从而实现雪崩光电二极管apd偏置电压的步进调节；通过引入负电源电压，扩大了apd偏置电压的调节范围，有利于提高apd阵列的均匀性和电压稳定性，提升光子探测的灵敏度；提出以pmos源极，而不是ldo电路中的漏极产生步进电压，具有面积小、响应速度快，电压准确度高等优点；像素外的运放采用折叠式共源共栅运放结构时，选择pmos管作为输入对管用于增大共模输入范围，另外将p输入对管的衬底接到比较高电位，能够使得输入对管的阈值电压因衬底偏置效应而增大。附图说明图1为本发明提出的基于负压调节的雪崩光电二极管偏压调节电路的一种电路实现结构框图。图2为本发明提出的基于负压调节的雪崩光电二极管偏压调节电路中一运算放大器在实施例中采用折叠式共源共栅运放的电路原理图。图3为本发明提出的基于负压调节的雪崩光电二极管偏压调节电路在不同配置的情况下apd接口电压的仿真波形示意图。原装乐山二极管采购。武汉激光二极管企业
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r1至r8各自地选自氢、c1-c20烷基、c1-c20烷氧基、c1至c20烷基甲硅烷基、c6-c30芳基、c5-c30杂芳基和胺。此外，m为2至5的整数，n为1至3的整数，以及m+n小于或等于6。例如，延迟荧光掺杂剂152可以选自式2。[式2]延迟荧光掺杂剂152可以由式3表示。[式3]在式3中，r1至r8各自地选自氢、c1-c20烷基、c1-c20烷氧基、c1至c20烷基甲硅烷基、c6-c30芳基、c5-c30杂芳基和胺。此外，a和b分别由式3-1和式3-2表示。r9至r11各自地选自氢、c1-c20烷基、c1-c20烷氧基、c1至c20烷基甲硅烷基、c6-c30芳基、c5-c30杂芳基和胺。[式3-1][式3-2]例如，式3的延迟荧光掺杂剂152可以选自式4。[式4]磷光掺杂剂154可以由式5表示。[式5]在式5中，r1至r4各自地选自氢、c1-c20烷基、c1-c20烷氧基、c1至c20烷基甲硅烷基、c6-c30芳基、c5-c30杂芳基和胺，以及r1与r2或r2与r3或r3与r4结合形成稠合的c6-c30芳族环。此外，n为1至3的整数。例如，磷光掺杂剂154可以选自式6。[式6]相对于延迟荧光掺杂剂152，磷光掺杂剂154的重量百分比等于或小于约5％。例如，磷光掺杂剂154相对于延迟荧光掺杂剂152的重量百分比可以为约％至％，并且推荐约％至％。尽管未示出，但eml150还包含基质。在eml150中。武汉激光二极管企业
深圳市巨新科电子有限公司拥有经营范围包括一般经营项目是：一般经营项目是：投资兴办实业（具体项目另行申报）；电子产品、电子元器件、电脑配件、电脑软件的研发与销售；国内贸易（不含专营、专控、专卖商品）；货物及技术进出口: 经营电子商务；自有房屋租赁。等多项业务，主营业务涵盖二极管，电阻，电容，电感。公司目前拥有较多的高技术人才，以不断增强企业重点竞争力，加快企业技术创新，实现稳健生产经营。诚实、守信是对企业的经营要求，也是我们做人的基本准则。公司致力于打造高品质的二极管，电阻，电容，电感。公司深耕二极管，电阻，电容，电感，正积蓄着更大的能量，向更广阔的空间、更宽泛的领域拓展。