无芯电机线圈用成壁材料3D实装材料(成壁材料)用于线圈绝缘膜时的结构特征提高线圈功率的效率通过将铜(Cu)绝缘膜变薄使线圈高密度话,从而实现提高线圈功率的效率。降低生产成本因为不需要做曝光显影处理,因此可以简化工艺,达到减少使用材料来实现降低生产成本的目的。也可以应用于无线供电系统的线圈。粘合剂材料摄像头用玻璃胶使用3D实装材料时的结构特征摄像头模组薄型化,降低成本实现了粘合剂的精细喷涂,因此不再需要玻璃固定用外壳,从而使模块更薄,达到降低成本的目的。MEMS用气腔形成剂使用3D实装材料(粘合剂)时的结构特征封装变薄由于不再需要传统结构中的用于形成气腔的薄膜,因此可以将封装做得更薄。简化工艺可以通过在组装过程中形成气腔,从而达到简化工艺的目的。sekisui积水830胶带,型号齐全!江西高温积水胶带咨询问价
也由于该粒子较低的复原率,可用于控制柔软材质的基材的厚度。产品情报微粒子黑色均一树脂微粒子【MicropearlKB】聚合物polymer颗粒,其中分散着粒径分布均匀的黑色颜料,具有良好的黑色度,遮光性,吸水性,耐热性和耐化学性。产品情报微粒子/导热胶包含精细微粒子的控制粘合剂添加了微粒子的热固性粘合剂。可以通过添加不同直径的颗粒来自由控制粘合层厚度。产品情报导热胶液晶显示屏用ODF框胶【PhotolecS系列】高粘接强度,低透湿性的UV+热固化粘合剂。也可提供黑色遮光型号。产品情报导热胶UV即硬化型粘合剂【PhotolecA】光固化,高度透明的粘合剂,无氧抑制和高反应性。杂质含量低,耐回流。可着色。江西高温积水胶带咨询问价sekisui积水胶带,5215PSB型号齐全!
高耐久类型(离型)Tackwell157SD,SD-S防止由于溶剂引起的离型层脱落,即使是高粘连性的液状湿膜,可容易从底片剥离。有些无卤型和封装基板用液状绿漆使用特殊溶剂,该溶液会使离型层脱落,因此经过几次曝光后就必须更换胶带。TACKWELL#157SD可防止此类溶剂引起的离型层脱落,并且通过大幅提高TACKWELL的耐久性,在使用液状绿漆时保护膜的更换次数可减少到小限度。而且,由于具有杰出的光学特性,也适用于BGA等高密度封装基板。离型层脱落测试积水测试方法按照实际的基板曝光方式,多次曝光,进行测试。POTOMASK白色评价评价方法各曝光数次后POTOMASK的HAZEl值的测定积水评价方法(密着曝光评价)根据实基板的曝水的形状,重复进行曝光,实施测试。绿漆太阳油墨AUS308基板0.8mm(t)玻璃纤维环氧树脂铜厚35微米两面真空密接-75cmHg×1分钟记载的数值为测量值,非保证值。高耐久型(防静电,离型)Tackwell157ASD在深受好评的157SD的高耐久离型层的基础上,加上高耐久的防静电功能和抑制气泡(贴合时产生的气泡)的功能。抗静电功能贴合时的气泡抑制功能使用maskKodak(株)生产SO-404L/S=30/30μ贴合速度1m/min贴合方向照片从左到右
特征UV照射后粘着剂自行产出氮气使粘力下降,可在晶圆不受外力的情况下实现自行剥离。用途晶圆化学镀UBM时的背面保护膜、防止晶圆在剥离中受损用途例镀UBM的工艺适用前处理(alkali碱溶液,PH9)后处理(强酸,强碱)镀金属处理(Ni。Au等)特性一般物性项目单位胶带厚度基材25μm粘着剂30μm项目单位SUSSiWafer金粘着力初期N/:180度剥离UV照射:1000MJ晶圆/芯片制造工艺相关产品一览产品分类产品名特征UV剥离胶带耐热,高附着力,易剥离的UV胶带,用于半导体工艺【SELFAHS】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。在各种PKG制造过程中可保护器件表面并抑制翘曲。UV剥离胶带高耐热,高粘附力,易剥离的双面UV胶带,用于临时键合工艺【SELFAHW】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。用于玻璃乘载工艺時,保持高平坦度且兼顧操作使用時的安全。UV剥离胶带UV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺【SELFA-MP】具有高耐化学性和低残留性的UV剥離胶帶;透过UV照射产生气体,剥離時可减少對设备的损伤。sekisui积水BAZ胶带,型号齐全!
去除了阻焊剂的起伏进而形成平坦的基板表面。未贴薄膜遮蔽胶带的案例有贴薄膜遮蔽胶带的案例去除异物如下图所示,可以通过在两侧应用薄膜胶带来防止阻焊剂的氧化。平面图断面图应用场景工序图(FC-BGA基板制造)1.基板2.感光树脂涂层3.胶带压合4.曝光5.显影,后处理产品Line up项目单元#3250A#3750厚度基材μm1212粘着剂μm28分隔器μm3030SP附着力N/25mm0.140.50分隔器剥离力N/25mm0.090.20全光线透过率%91.991.2Haze%4.23.7补充结合附着力和易剥离性,无残胶基板表面的ATR光谱分析比较未贴胶带的基板表面和有贴胶带的剥离后基板表面的光谱, 并无差异。基材表面抽出物的红外光谱分析比较未贴胶带的基板表面和有贴胶带的基材表面的溶剂提取物, 并无差异。薄膜遮蔽胶带主要用于FC-BGA基板,在多层基板制造工序中用作保护阻焊剂的胶带。防止阻焊剂的氧抑制。昭和电工阻焊剂/SR7300/SR7400A推荐产品不含矽,可防止油墨文字相互影响结合附着力和易剥离性,无残胶基材平坦性良好图片:产品配置图基板平坦度通过使用薄膜胶带.sekisui积水5600胶带,型号齐全!江西高温积水胶带咨询问价
sekisui积水3808胶带,型号齐全!江西高温积水胶带咨询问价
提升生产性特征干膜式的临时键合使操作更加安全稳定通过产生气体实现无损伤剥离优良的耐热性,耐药性使用例:传感器(CIS,指纹等)防止晶圆翘曲产品规格品名类型高耐热剥离方法基材种类器件侧粘着种类支撑剂侧粘着种类UV波长(nm)UV照射量(mj/cm2)用途例HW两面○剥离气体剥离耐热膜UV固化粘着剂气体产生2000玻璃支撑测试结果背部研磨测试测试条件结果晶圆厚度700μm⇒50~30μm边缘部分耐药性测试玻璃+双面SELFA+晶圆贴合后3小时进入测试实施Acid(SC2:HCl+H2O2+H20):3時間Base():3時間无Pre-UV边缘浮起边缘浮起有Pre-UV端部OK端部OK耐热测试a)220℃×2小时b)260℃无铅回流焊条件热板烘烤玻璃+双面SELFA+晶圆贴合后进行耐热性测试无变化:2小时OK无变化:3次OKUV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺SELFA-MP电镀工程中的背面保护用的胶带,UV照射后产生GAS,可以从接着体上剥离开来。江西高温积水胶带咨询问价