气相沉积（英语：Physicalvapordeposition，PVD）是一种工业制造上的工艺，属于镀膜技术的一种，是主要利用物理...

典型设备包含六个中心子系统：等离子体发生源（微波/射频/直流）、真空反应腔体、气体输送与配比系统、基底温控台、电源与匹配网络、尾气...

难熔金属粉末处理过程中，设备对工艺气体纯度要求适中。用户使用工业级高纯氩气或氮气即可满足大部分生产要求，无需采购更昂贵的气体。气体...

等离子体电源，作为现代科技的重要成果，其独特的物理特性和广泛的应用领域使得它在科研和工业生产中发挥着越来越重要的作用。它利用电场和...

等离子体电源在科学研究中有广泛的应用，例如等离子体物理、核聚变研究和等离子体诊断。在工业生产中，等离子体电源被用于表面处理、材料改...