广东省科学院半导体研究所
材料刻蚀是一种常见的微纳加工技术,用于制造微电子器件、MEMS器件、光学器件等。常用的材料刻蚀方法包括物理刻蚀和化学刻蚀两种。物理...
光刻胶是一种用于微电子制造中的重要材料,其主要成分是聚合物和光敏剂。聚合物是光刻胶的主体,它们提供了胶体的基础性质,如粘度、强度和...
光刻技术是一种重要的纳米制造技术,主要应用于半导体芯片制造、光学器件制造、微电子机械系统制造等领域。其主要应用包括以下几个方面:1...
光刻胶是一种用于微电子制造中的重要材料,它的选择标准主要包括以下几个方面:1.分辨率:光刻胶的分辨率是指它能够实现的至小图形尺寸。...
材料刻蚀是一种常见的微纳加工技术,用于制造微电子器件、MEMS器件、光学器件等。刻蚀是通过化学或物理作用将材料表面的一部分或全部去...