广东省科学院半导体研究所
光源稳定性是影响光刻图形精度的关键因素之一。在光刻过程中,光源的不稳定会导致曝光剂量不一致,从而影响图形的对准精度和终端质量。因此...
薄膜的成膜过程是一个物质形态的转变过程,不可避免地在成膜后的膜层中会有应力存在。应力的存在对膜强度是有害的,轻者导致膜层耐不住摩擦...
在太阳能电池领域,磁控溅射技术被用于制备提高太阳能电池光电转换效率的薄膜。例如,通过磁控溅射技术可以沉积氮化硅等材料的减反射膜,减...
光刻过程中图形的精度控制是半导体制造领域的重要课题。通过优化光源稳定性与波长选择、掩模设计与制造、光刻胶性能与优化、曝光控制与优化...
量子微纳加工是前沿科技领域的一项重要技术,它结合了量子物理与微纳制造的优势,旨在精确操控量子材料在纳米尺度上的结构与性能。这种加工...