上海纳米双光子聚合三维光刻

Nanoscribe称，QuantumX是世界上**基于双光子灰度光刻技术（two-photongrayscalelithography，2GL）的工业系统，目前该技术正在申请专利。2GL将灰度光刻技术与Nanoscribe的双光子聚合技术相结合，可生产折射和衍射微光学以及聚合物母版的原型。该系统配备三个用于实时过程控制的摄像头和一个树脂分配器。为了简化硬件配置之间的转换，物镜和样品夹持器识别会自动运行。多层衍射光学元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通过在扫描平面内调制激光功率来完成，从而减少多层微制造所需的打印时间。Nanoscribe表示，折射微光学也受益于2GL工艺的加工能力，可制作单个光学元件、填充因子高达100%的阵列，以及可以在直接和无掩模工艺中实现各种形状，如球面和非球面透镜。QuantumX的软件能实时控制和监控打印作业，并通过交互式触摸屏控制面板进行操作。为了更好地管理和安排用户的项目，打印队列支持连续执行一系列打印作业。Nanoscribe公司的系列产品是基于双光子聚合原理的高精度微纳3D打印系统。上海纳米双光子聚合三维光刻

QuantumXshape作为理想的快速成型制作工具，可实现通过简单工作流程进行高精度和高设计自由度的制作。作为2019年推出的头一台双光子灰度光刻(2GL®)系统QuantumX的同系列产品，QuantumXshape提升了3D微纳加工能力，即完美平衡精度和速度以实现高精度增材制造，以达到高水平的生产力和打印质量。总而言之，工业级QuantumX打印系统系列提供了从纳米到中观尺寸结构的非常先进的微制造工艺，适用于晶圆级批量加工。高速3D微纳加工系统QuantumXshape可实现出色形状精度和高精度制作。这种高质量的打印效果是结合了特别先进的振镜系统和智能电子系统控制单元的结果，同时还离不开工业级飞秒脉冲激光器以及平稳坚固的花岗岩操作平台。上海纳米双光子聚合三维光刻专业人才们运用Nanoscribe的双光子聚合技术，实现微流道母版制造和密闭通道系统内部的芯片内直接打印。

双光子聚合是物质在发生双光子吸收后所引发的光聚合过程。双光子吸收是指物质的一个分子同时吸收两个光子的过程，只能在强激光作用下发生，是一种强激光下光与物质相互作用的现象，属于三阶非线性效应的一种。双光子吸收的发生主要在脉冲激光所产生的特别强激光的焦点处，光路上其他地方的激光强度不足以产生双光子吸收，而由于所用光波长较长，能量较低，相应的单光子过程不能发生，因此，双光子过程具有良好的空间选择性。双光子聚合利用了双光子吸收过程对材料穿透性好、空间选择性高的特点，在三维微加工、高密度光储存及生物医疗领域有着巨大的应用前景，近年来已成为全球高新技术领域的一大研究热点。

Nanoscribe对准双光可光刻技术搭配nanoPrintX，一种基于场景图概念的软件工具，可用于定义对准3D打印的打印项目。树状数据结构提供了所有与打印相关的对象和操作的分层组织，用于定义何时、何地、以及如何进行打印。在nanoPrintX中可以定义单个对准标记以及基板特征，例如芯片边缘和光纤表面。使用QuantumXalign系统的共焦单元或光纤照明单元，可以识别这些特定的基板标记，并将其与在nanoPrintX中定义的数字模型进行匹配。对准双光子光刻技术和nanoPrintX软件是QuantumXalign系统的标配。新型双光子聚合技术的操作原理是什么？

Nanoscribe作为一家纳米，微米和中尺度高精度结构增材制造**，一直致力于开发和生产3D微纳加工系统和无掩模光刻系统，以及自研发的打印材料和特定应用不同解决方案。Nanoscribe成立于2007年，是卡尔斯鲁厄理工学院(KIT)的衍生公司。在全球前列大学和创新科技企业的中，有超过2,500多名用户在使用我们突破性的3D微纳加工技术和定制应用解决方案。Nanoscribe凭借其过硬的技术背景和市场敏锐度奠定了其市场优于主导地位，并以高标准来要求自己以满足客户的需求。Nanoscribe将在未来进一步扩大产品组合实现多样化，以满足不用客户群的需求。欢迎咨询Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司为您揭秘什么是双光子聚合微纳加工系统。上海纳米双光子聚合三维光刻

科学家们运用Nanoscribe的双光子聚合技术打印微型通道的聚合物母版，并结合软光刻技术做后续复制工作。上海纳米双光子聚合三维光刻

作为纳米、微米和介观尺度高分辨率3D微纳加工的关键技术，双光子聚合技术(2PP)能在高速打印的同时确保高精度制作。结合极高设计自由度的特点，2PP高精度增材制造推动着未来技术在例如生命科学、微流体、材料工程、微机械 和MEMS等科研和工业领域应用的发展。Nanoscribe作为2PP微纳加工市场人物，将继续突破3D微纳加工的极限。基于突破性双光子对准技术(A2PL@)的Quantum X平台系列，可以实现在光纤前列和光子芯片上直接打印自由曲面微光学元件，助力光子封装领域实现在所有空间方向的纳米级对准和定位。此外，该系统具备的双光子灰度光刻技术(2GL @)是制造具备比较高光学质量的2.5D折射和衍射微光学器件的好的选择，上海纳米双光子聚合三维光刻