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氧化工艺是集成电路制造中的基础工艺之一，其作用是在硅片表面形成一层氧化膜，以保护硅片表面免受污染和损伤。氧化膜的厚度和质量对电路的性能和可靠性有着重要的影响。在氧化工艺中，硅片首先被清洗干净，然后放入氧化炉中，在高温高压的氧气环境下进行氧化反应，形成氧化膜。氧化膜的厚度可以通过调节氧化时间和温度来控制。此外，氧化工艺还可以用于形成局部氧化膜，以实现电路的局部隔离和控制。光刻工艺是集成电路制造中较关键的工艺之一，其作用是在硅片表面上形成微小的图案，以定义电路的结构和功能。集成电路的分类方法众多，根据电路的功能和特性可以分为模拟集成电路、数字集成电路和混合信号集成电路。ITR12997

集成电路，英文为Integrated Circuit，缩写为IC；顾名思义，就是把一定数量的常用电子元件，如电阻、电容、晶体管等，以及这些元件之间的连线，通过半导体工艺集成在一起的具有特定功能的电路。是20世纪50年代后期到60年代发展起来的一种新型半导体器件。它是经过氧化、光刻、扩散、外延、蒸铝等半导体制造工艺，把构成具有一定功能的电路所需的半导体、电阻、电容等元件及它们之间的连接导线全部集成在一小块硅片上，然后焊接封装在一个管壳内的电子器件。其封装外壳有圆壳式、扁平式或双列直插式等多种形式。集成电路技术包括芯片制造技术与设计技术，主要体现在加工设备，加工工艺，封装测试，批量生产及设计创新的能力上。ITR12997硅集成电路是通过将实现某种功能的电路所需的各种元件放在一块硅片上，形成的整体。

制作工艺：集成电路按制作工艺可分为半导体集成电路和膜集成电路。膜集成电路又分类厚膜集成电路和薄膜集成电路。集成电路按导电类型可分为双极型集成电路和单极型集成电路，他们都是数字集成电路。双极型集成电路的制作工艺复杂，功耗较大，按用途：集成电路按用途可分为电视机用集成电路、音响用集成电路、影碟机用集成电路、录像机用集成电路、电脑（微机）用集成电路、电子琴用集成电路、通信用集成电路、照相机用集成电路、遥控集成电路、语言集成电路、报警器用集成电路及各种集成电路。

基尔比和诺伊斯是集成电路的发明者，他们的发明为半导体工业带来了技术革新，推动了电子元件微型化的进程。在20世纪50年代，电子元件的体积和重量都非常大，而且工作效率低下。基尔比和诺伊斯的发明改变了这一局面，他们将多个晶体管、电容器和电阻器等元件集成在一起，形成了一个微小的芯片，从而实现了电子元件的微型化。这一发明不仅提高了电子元件的性能，而且使得电子设备的体积和重量很大程度上减小，为电子设备的发展奠定了基础。集成电路的发明不仅推动了电子元件微型化的进程，而且为电子设备的应用提供了更多的可能性。集成电路的封装外壳多样化，圆壳式、扁平式和双列直插式是常见的形式。

各楼层直接有高速电梯可达，为了效率和功能隔离，还可能有多部电梯，每部电梯能到的楼层不同——这是集成电路的布线，电源线、地线单独走线，负载大的线也宽；时钟与信号分开；每层之间布线垂直避免干扰；CPU与存储之间的高速总线，相当于电梯，各层之间的通孔相当于电梯间……集成电路或称微电路（microcircuit）、微芯片（microchip）、芯片（chip）在电子学中是一种把电路（主要包括半导体装置，也包括被动元件等）小型化的方式，并通常制造在半导体晶圆表面上。集成电路以微小尺寸的硅片为基础，通过复杂工艺实现多个元件和互连的完美整合。ITR12997

集成电路在制造过程中面临着泄漏电流等问题，制造商需要应对这些挑战，以提高电路的性能和可靠性。ITR12997

集成电路发展对策建议：打造国际精英人才的“新故乡”，充分发挥海归人才优势。海归人才在国外做了很多超前的技术开发研究，并且在全球一些公司内有产业经验，回国后从事很有需求的产品开发应用，容易成功。集成电路产业的研发就怕方向性错误与低水平重复，海归人才知道如何去做才能够成功。“归国人才团队+海外工作经验+优惠政策扶持+风险投资”式上海集成电路产业发展的典型模式，这在张江高科技园区尤为明显。然而，由于国际社区建设滞后、户籍政策限制、个人所得税政策缺乏国际竞争力等多方面原因综合作用，张江仍然没有成为海外高级人才的安家落户、长期扎根的开放性、国际性高科技园区。留学生短期打算、“做做看”的“候鸟”观望气氛浓厚，不利于全球高级人才的集聚。要充分发挥张江所处的区位优势以及浦东综合配套革新试点的政策优势，将单纯吸引留学生变为吸引留学生、国外精英等高层次人才。通过科学城建设以及个人所得税率的国际化调整、落户政策的优化，发挥上海“海派文化”传统，将张江建设成为世界各国人才汇集、安居乐业的新故乡，大幅提升张江在高层次人才争夺中的国际竞争力。ITR12997